摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第14-56页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 磁性氧化物概述 | 第15-26页 |
1.2.1 钙钛矿材料的结构特点与磁性相互作用 | 第15-20页 |
1.2.2 磁性氧化物界面多自由度耦合 | 第20-23页 |
1.2.3 磁性氧化物及多铁性机理研究进展 | 第23-26页 |
1.3 磁性氧化物LaCoO_3薄膜的研究现状 | 第26-36页 |
1.3.1 LaCoO_3铁磁性的发现 | 第26-27页 |
1.3.2 应力对LaCoO_3铁磁性的影响 | 第27-30页 |
1.3.3 灰色条带结构对铁磁性的影响 | 第30-33页 |
1.3.4 关于铁磁性的其他问题 | 第33-36页 |
1.4 参量复合氧化物量子功能材料的研究现状 | 第36-44页 |
1.4.1 参量复合氧化物量子功能材料概述 | 第36-38页 |
1.4.2 周期与掺杂调制研究进展 | 第38-44页 |
1.5 计划研究工作 | 第44页 |
1.5.1 磁性氧化物LaCoO_3薄膜中多自由度耦合机理及调控研究 | 第44页 |
1.5.2 参量复合量子功能材料多铁性表现及物理机制研究 | 第44页 |
1.6 本章小结 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-56页 |
第2章 试验方法 | 第56-91页 |
2.1 引言 | 第56页 |
2.2 衬底表面处理 | 第56-60页 |
2.3 薄膜制备 | 第60-64页 |
2.3.1 脉冲激光沉积技术 | 第60-62页 |
2.3.2 反射式高能电子衍射 | 第62-64页 |
2.4 薄膜结构、形貌与成分表征 | 第64-75页 |
2.4.1 结构表征 | 第64-72页 |
2.4.2 形貌表征 | 第72-74页 |
2.4.3 成分表征 | 第74-75页 |
2.5 薄膜物性表征 | 第75-85页 |
2.5.1 磁性 | 第75-78页 |
2.5.2 铁电性 | 第78-83页 |
2.5.3 电输运测试 | 第83-84页 |
2.5.4 光学性质 | 第84-85页 |
2.6 薄膜电子结构表征 | 第85-86页 |
2.7 微纳加工与器件设计制造 | 第86-88页 |
2.8 本章小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-91页 |
第3章 新型磁性氧化物LaCoO_3薄膜中多自由度耦合机理研究 | 第91-141页 |
3.1 一种本征高温铁磁绝缘体 | 第91-102页 |
3.1.1 前言 | 第91-92页 |
3.1.2 本征铁磁性的发现 | 第92-97页 |
3.1.3 第一性原理计算 | 第97-99页 |
3.1.4 本征铁磁绝缘体的确认与总结 | 第99-100页 |
3.1.6 小结 | 第100-102页 |
3.2 LaCoO_3薄膜结构与微观磁畴随厚度的演变 | 第102-111页 |
3.2.1 前言 | 第102页 |
3.2.2 实验部分 | 第102-103页 |
3.2.3 结构与形貌随厚度的演变 | 第103-107页 |
3.2.4 结构与新貌变化对磁畴的影响 | 第107-108页 |
3.2.5 LaCoO_3薄膜中一种可能的本征磁畴 | 第108-110页 |
3.2.7 小结 | 第110-111页 |
3.3 LaCoO_3薄膜各向异性初步研究 | 第111-117页 |
3.3.1 前言 | 第111页 |
3.3.2 试验部分 | 第111页 |
3.3.3 磁性各向异性初探 | 第111-114页 |
3.3.4 磁性各向异性的确认 | 第114-116页 |
3.3.5 小结 | 第116-117页 |
3.4 超薄LaCoO_3薄膜界面磁性、电输运及光学性质 | 第117-124页 |
3.4.1 前言 | 第117页 |
3.4.2 试验部分 | 第117页 |
3.4.3 超薄样品的磁性 | 第117-120页 |
3.4.4 超薄样品电输运测试 | 第120-122页 |
3.4.5 超薄样品的光学性质 | 第122-123页 |
3.4.6 小结 | 第123-124页 |
3.5 LaCoO_3/LaAlO_3双层薄膜界面调控研究 | 第124-135页 |
3.5.1 前言 | 第124页 |
3.5.2 试验部分 | 第124-125页 |
3.5.3 磁性调控研究 | 第125-127页 |
3.5.4 结构分析 | 第127-133页 |
3.5.5 价态研究 | 第133-134页 |
3.5.6 小结 | 第134-135页 |
3.6 本章小结 | 第135-136页 |
参考文献 | 第136-141页 |
第4章 新型参量复合氧化物的调控制备及表征 | 第141-173页 |
4.1 基于周期调控的薄膜制备及表征 | 第141-156页 |
4.1.1 引言 | 第141-142页 |
4.1.2 试验内容 | 第142页 |
4.1.3 单晶外延薄膜生长 | 第142-143页 |
4.1.4 自调制结构 | 第143-145页 |
4.1.5 铁电测试 | 第145-151页 |
4.1.6 磁性表征 | 第151-152页 |
4.1.7 光谱学性质 | 第152-153页 |
4.1.8 结构有序度提高尝试 | 第153-155页 |
4.1.9 小节 | 第155-156页 |
4.2 基于掺杂调控的薄膜制备及表征 | 第156-165页 |
4.2.0 前言 | 第156页 |
4.2.1 试验条件 | 第156-158页 |
4.2.2 生长条件摸索 | 第158-160页 |
4.2.3 掺杂结构转变 | 第160-162页 |
4.2.4 电子结构转变 | 第162-164页 |
4.2.5 多铁性增强 | 第164-165页 |
4.2.6 小结 | 第165页 |
4.3 本章小结 | 第165-167页 |
参考文献 | 第167-173页 |
第5章 总结与展望 | 第173-179页 |
5.1 全文总结 | 第173-175页 |
5.2 工作创新点 | 第175页 |
5.3 后续工作展望 | 第175-179页 |
攻读博士学位期间的学术成果及获奖情况 | 第179-181页 |
致谢 | 第181-182页 |