| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第14-41页 |
| 1.1 高硅钢概述 | 第14-24页 |
| 1.1.1 硅钢简介 | 第14-15页 |
| 1.1.2 高硅钢的发展史 | 第15-16页 |
| 1.1.3 高硅钢制备技术 | 第16-20页 |
| 1.1.4 高硅钢的结构和性能 | 第20-24页 |
| 1.2 金属材料表面纳米化 | 第24-35页 |
| 1.2.1 表面纳米化研究背景 | 第24-25页 |
| 1.2.2 基本原理与制备方法 | 第25-30页 |
| 1.2.3 表面纳米化的结构特征 | 第30-31页 |
| 1.2.4 表面纳米化对性能的影响 | 第31-33页 |
| 1.2.5 表面纳米化与化学处理复合工艺 | 第33-35页 |
| 1.3 异步轧制 | 第35-37页 |
| 1.3.1 异步轧制技术的发展 | 第35-36页 |
| 1.3.2 异步轧制制备超细晶材料的研究进展 | 第36-37页 |
| 1.4 固体渗硅技术 | 第37-39页 |
| 1.4.1 渗剂配制原则 | 第37-38页 |
| 1.4.2 影响渗硅的因素 | 第38-39页 |
| 1.5 本工作的目的和内容 | 第39-41页 |
| 第二章 样品制备和实验方法 | 第41-45页 |
| 2.1 实验材料 | 第41页 |
| 2.2 样品制备 | 第41-42页 |
| 2.2.1 表面机械研磨处理 | 第41页 |
| 2.2.2 异步轧制 | 第41-42页 |
| 2.2.3 粉末包埋法渗硅 | 第42页 |
| 2.3 结构表征方法 | 第42-45页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第42-43页 |
| 2.3.2 光学显微镜 | 第43页 |
| 2.3.3 扫描电镜 | 第43页 |
| 2.3.4 透射电镜 | 第43页 |
| 2.3.5 电子探针 | 第43-44页 |
| 2.3.6 显微硬度 | 第44-45页 |
| 第三章 形变诱发的表面纳米化 | 第45-57页 |
| 3.1 引言 | 第45-46页 |
| 3.2 结构表征 | 第46-52页 |
| 3.2.1 横截面金相观察 | 第46页 |
| 3.2.2 表层X射线衍射物相分析 | 第46-48页 |
| 3.2.3 深度方向的透射电镜观测 | 第48-52页 |
| 3.2.4 横截面显微硬度沿深度分布 | 第52页 |
| 3.3 分析与讨论 | 第52-56页 |
| 3.3.1 梯度结构特征 | 第52-53页 |
| 3.3.2 纳米化机理 | 第53-54页 |
| 3.3.3 异步轧制工艺参数的影响 | 第54-55页 |
| 3.3.4 结构与性能关系 | 第55-56页 |
| 3.4 小结 | 第56-57页 |
| 第四章 表面纳米化结构的低温渗硅研究 | 第57-93页 |
| 4.1 引言 | 第57页 |
| 4.2 渗硅实验结果 | 第57-83页 |
| 4.2.1 450 和500℃渗硅 | 第59-60页 |
| 4.2.2 550℃渗硅 | 第60-64页 |
| 4.2.3 600℃渗硅 | 第64-70页 |
| 4.2.4 650℃渗硅 | 第70-79页 |
| 4.2.5 700℃渗硅 | 第79-83页 |
| 4.3 分析与讨论 | 第83-92页 |
| 4.3.1 工艺参数对渗硅层厚度的影响 | 第83-89页 |
| 4.3.2 梯度结构对渗硅层厚度的影响 | 第89-90页 |
| 4.3.3 渗硅层的物相组成及其影响因素 | 第90-91页 |
| 4.3.4 渗硅层内孔洞成因 | 第91-92页 |
| 4.4 小结 | 第92-93页 |
| 第五章 Si在表面梯度结构中扩散热力学研究 | 第93-104页 |
| 5.1 引言 | 第93页 |
| 5.2 粗晶Fe-Si合金中的扩散 | 第93-95页 |
| 5.3 纳米晶体材料中的扩散 | 第95-96页 |
| 5.4 Si在表面梯度结构中的扩散 | 第96-102页 |
| 5.4.1 电子探针成分分析 | 第96-99页 |
| 5.4.2 扩散系数与激活能计算 | 第99-101页 |
| 5.4.3 分析与讨论 | 第101-102页 |
| 5.5 小结 | 第102-104页 |
| 第六章 异步轧制/低温渗硅样品高温扩散退火组织的演变 | 第104-109页 |
| 6.1 引言 | 第104页 |
| 6.2 1000℃扩散退火 | 第104-106页 |
| 6.3 1100℃扩散退火 | 第106-107页 |
| 6.4 分析与讨论 | 第107-108页 |
| 6.5 小结 | 第108-109页 |
| 第七章 结论 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-120页 |
| 致谢 | 第120-121页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及专利 | 第121页 |