高硅铝合金锡镍混合盐电解着色工艺及其性能研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 表面处理技术简介 | 第13-16页 |
1.2.1 化学转化处理技术 | 第13-14页 |
1.2.2 阳极氧化处理技术 | 第14页 |
1.2.3 硬质阳极氧化处理技术 | 第14-15页 |
1.2.4 微弧氧化处理技术 | 第15-16页 |
1.3 铝材阳极氧化技术 | 第16-25页 |
1.3.1 氧化膜的结构与形貌 | 第16-20页 |
1.3.2 氧化膜的成分 | 第20页 |
1.3.3 阳极氧化反应过程 | 第20-21页 |
1.3.4 阳极氧化膜的形成机理 | 第21-23页 |
1.3.5 阳极氧化工艺 | 第23-25页 |
1.4 着色技术 | 第25-27页 |
1.4.1 着色技术概述 | 第25页 |
1.4.2 铝合金着色技术的分类 | 第25-27页 |
1.5 电解着色技术的发展过程 | 第27-28页 |
1.5.1 电解着色法的发明 | 第27页 |
1.5.2 电解着色法的工业化道路 | 第27-28页 |
1.5.3 技术转让权的确定与普及 | 第28页 |
1.5.4 我国的着色行业发展 | 第28页 |
1.6 电解着色机理 | 第28-29页 |
1.7 电解着色方法 | 第29-30页 |
1.7.1 锡镍混合盐和锡盐电解着色 | 第29-30页 |
1.7.2 镍盐电解着色 | 第30页 |
1.7.3 其他金属盐电解着色 | 第30页 |
1.8 选题目的及意义 | 第30-31页 |
1.9 本课题研究的主要内容 | 第31-32页 |
第2章 实验用品、仪器和实验方法 | 第32-45页 |
2.1 实验材料、试剂及仪器 | 第32-34页 |
2.2 实验方法 | 第34-41页 |
2.2.1 实验装置 | 第34页 |
2.2.2 实验工艺流程 | 第34页 |
2.2.3 实验预处理 | 第34-37页 |
2.2.4 正交实验设计 | 第37-40页 |
2.2.5 参数对电解着色的影响 | 第40页 |
2.2.6 封孔工艺 | 第40页 |
2.2.7 表面处理后铝试样质量变化 | 第40-41页 |
2.2.8 阳极氧化和电解着色处理中水洗的必要性 | 第41页 |
2.3 电解着色膜的质量评定方法 | 第41-44页 |
2.3.1 外观质量评定 | 第41页 |
2.3.2 耐磨性检测 | 第41页 |
2.3.3 热稳定性检测 | 第41-42页 |
2.3.4 热震实验 | 第42页 |
2.3.5 滴碱实验 | 第42页 |
2.3.6 化学浸泡实验 | 第42-43页 |
2.3.7 中性盐雾实验(NSS) | 第43页 |
2.3.8 耐候性测试 | 第43-44页 |
2.4 电解着色膜层的物理检测 | 第44-45页 |
2.4.1 金相显微镜观察不同试样的表面微观形貌 | 第44页 |
2.4.2 扫描电镜(SEM) | 第44页 |
2.4.3 着色膜的能谱(EDS)分析 | 第44页 |
2.4.4 X-射线荧光光谱分析(XRF) | 第44页 |
2.4.5 X-射线衍射(XRD) | 第44-45页 |
第3章 实验结果与讨论 | 第45-66页 |
3.1 最优工艺的确定 | 第45-51页 |
3.1.1 正交实验综合评定标准 | 第45页 |
3.1.2 正交实验结果与分析 | 第45-47页 |
3.1.3 正交实验中各因素的影响分析 | 第47-51页 |
3.2 参数对电解着色的影响 | 第51-56页 |
3.2.1 电解着色时间对着色膜的影响 | 第51-53页 |
3.2.2 着色主盐浓度对着色膜的影响 | 第53-54页 |
3.2.3 温度对着色膜的影响 | 第54-55页 |
3.2.4 交流电压对着色膜的影响 | 第55-56页 |
3.2.5 阳极氧化时间对着色膜的影响 | 第56页 |
3.3 表面处理后铝试样质量变化结果分析 | 第56-57页 |
3.4 电解着色膜层的性能测试结果 | 第57-60页 |
3.4.1 目视外观结果 | 第57-58页 |
3.4.2 着色膜耐磨性测试 | 第58页 |
3.4.3 热稳定性检测 | 第58页 |
3.4.4 热震实验 | 第58-59页 |
3.4.5 化学浸泡实验分析 | 第59页 |
3.4.6 中性盐雾实验 | 第59-60页 |
3.4.7 耐候性检测 | 第60页 |
3.5 电解着色膜层的物理检测 | 第60-66页 |
3.5.1 金相显微镜形貌观测 | 第60-61页 |
3.5.2 扫描电镜形貌(SEM) | 第61-62页 |
3.5.3 着色膜的能谱(EDS)分析 | 第62-64页 |
3.5.4 着色膜化学成分分析 | 第64-65页 |
3.5.5 X-射线衍射(XRD)分析 | 第65-66页 |
第4章 结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
致谢 | 第74页 |