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基于FDTD算法的混响室研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-15页
第一章 绪论第15-21页
    1.1 研究背景和意义第15-16页
    1.2 电磁算法概述第16-17页
    1.3 国内外动态研究第17-18页
    1.4 研究内容和方法第18-21页
第二章 混响室建模与仿真基础第21-39页
    2.1 电磁建模与仿真方法第21-29页
        2.1.1 电磁建模与仿真的基本概念第21-23页
        2.1.2 电磁建模与仿真的数值方法介绍第23-29页
    2.2 混响室的电磁三维仿真第29-34页
        2.2.1 混响室仿真的必要性第30-31页
        2.2.2 选择一个合适的数值方法第31-33页
        2.2.3 混响室仿真发展第33-34页
    2.3 时域有限差分方法第34-38页
        2.3.1 麦克斯韦方程和Yee元胞第35-37页
        2.3.2 数值稳定性第37-38页
    2.4 小节第38-39页
第三章 混响室基本理论第39-59页
    3.1 混响室电磁场理论第39-42页
    3.2 混响室的性能参数第42-49页
        3.2.1 混响室品质因数Q第42-47页
        3.2.2 最低可用频率第47-48页
        3.2.3 混响室的品质因数带宽第48页
        3.2.4 混响室的时间常数第48-49页
    3.3 混响室常用的技术第49-51页
        3.3.1 机械模式搅拌第49-50页
        3.3.2 频率搅拌第50页
        3.3.3 源移动搅拌第50-51页
    3.4 混响室内场的统计第51-58页
        3.4.1 概率密度函数第51-53页
        3.4.2 K-S检验法第53-54页
        3.4.3 混响室场均匀性评估第54-56页
        3.4.4 空间电场相关性第56-58页
    3.5 小结第58-59页
第四章 混响室的建模、仿真及性能分析第59-75页
    4.1 混响室的FDTD建模第59-68页
        4.1.1 矩形屏蔽腔体的建模第59-61页
        4.1.2 天线的建模第61-65页
        4.1.3 搅拌器的建模第65-67页
        4.1.4 激励源的设置第67-68页
    4.2 混响室的仿真流程第68-69页
    4.3 仿真结果与分析第69-74页
        4.3.1 第一本征模在矩形腔体中的电场分布第69-71页
        4.3.2 天线对电场分布的影响第71-72页
        4.3.3 模式搅拌混响室的性能评估第72-74页
    4.4 小结第74-75页
第五章SVD在FDTD仿真结果的模态分析中的应用第75-81页
    5.1 SVD在电磁场中的物理意义第75-76页
    5.2 仿真结果的SVD分析第76-80页
    5.3 小结第80-81页
第六章 总结与展望第81-83页
参考文献第83-87页
致谢第87-89页
作者简介第89-90页
    1. 基本情况第89页
    2. 教育背景第89-90页

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