| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 半导体材料光电催化制氢的研究进展 | 第10-11页 |
| 1.2 光电化学分解水制氢体系的反应原理 | 第11-12页 |
| 1.3 光解水制氢体系中常见的半导体材料 | 第12-13页 |
| 1.4 α-Fe_2O_3半导体材料光解水制氢的研究 | 第13-23页 |
| 1.4.1 氧化铁纳米材料的合成方法 | 第14-17页 |
| 1.4.2 α-Fe_2O_3的基本特性 | 第17-19页 |
| 1.4.3 提高氧化铁光催化活性的途径 | 第19-23页 |
| 1.4.4 α-Fe_2O_3材料在光催化领域中的应用 | 第23页 |
| 1.5 本论文的主要结构 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-29页 |
| 第二章 NaNO_3和FeCl_3.6H_2O浓度对氧化铁合成的影响 | 第29-41页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 实验试剂和仪器 | 第30-31页 |
| 2.2.1 实验试剂及材料 | 第30页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第30-31页 |
| 2.3 样品制备和表征 | 第31-32页 |
| 2.3.1 样品的制备 | 第31-32页 |
| 2.3.2 样品形貌和结构表征 | 第32页 |
| 2.3.3 样品光电化学表征 | 第32页 |
| 2.4 实验结果与讨论 | 第32-38页 |
| 2.4.1 NaNO_3和FeCl_3.6H_2O浓度对样品形貌的影响 | 第32-36页 |
| 2.4.2 样品光电化学测试结果分析 | 第36-38页 |
| 2.4.3 氧化铁晶型对比分析 | 第38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 氧化铁的深层还原处理及在光解水中的应用 | 第41-56页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 实验试剂和仪器 | 第41-43页 |
| 3.2.1 实验试剂及材料 | 第41-42页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第42-43页 |
| 3.3 样品的制备和表征 | 第43-45页 |
| 3.3.1 样品的制备 | 第43-44页 |
| 3.3.2 样品形貌和结构的表征 | 第44页 |
| 3.3.3 样品光电化学表征 | 第44-45页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第45-54页 |
| 3.4.1 样品处理前后形貌结构分析 | 第45-46页 |
| 3.4.2 光电性能测试讨论 | 第46-52页 |
| 3.4.3 成分及晶体结构分析 | 第52-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第四章 表面镍掺杂的氧化铁光催化性能研究 | 第56-65页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 实验试剂和仪器 | 第57-58页 |
| 4.2.1 实验试剂及材料 | 第57页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第57-58页 |
| 4.3 FeOOH表面镍掺杂处理 | 第58-61页 |
| 4.3.1 纳米镍颗粒处理样品的制备与结果分析 | 第58-59页 |
| 4.3.2 高真空离子溅射镍处理样品的制备与结果分析 | 第59-61页 |
| 4.4 α-Fe_2O_3表面镍掺杂处理 | 第61-63页 |
| 4.4.1 纳米镍颗粒处理样品的制备与结果分析 | 第61页 |
| 4.4.2 高真空离子溅射镍处理样品的制备与结果分析 | 第61-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
