| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 纳流体技术的应用与发展 | 第10-11页 |
| 1.2 微纳流体在样品预浓缩上的应用 | 第11-15页 |
| 1.2.1 微纳流体混合结构在样品预浓缩上的应用 | 第11-13页 |
| 1.2.2 聚合物纳米多孔结构(NPS)在样品预浓缩上的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 纳流体结构表征方法 | 第15-23页 |
| 1.3.1 扫描电子显微镜表征纳流体结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 流体特性间接表征纳流体结构 | 第17-19页 |
| 1.3.3 电化学阻抗谱表征纳流体结构 | 第19-23页 |
| 1.4 本文主要内容 | 第23-25页 |
| 2 聚丙烯酰胺NPS电化学检测方法 | 第25-36页 |
| 2.1 电化学阻抗谱检测 | 第25-29页 |
| 2.1.1 电化学阻抗谱 | 第25页 |
| 2.1.2 等效电路及阻抗的表示 | 第25-29页 |
| 2.2 内流体双电层理论及等效模型 | 第29-35页 |
| 2.2.1 双电层理论 | 第29-33页 |
| 2.2.2 内流体的电导率 | 第33-34页 |
| 2.2.3 聚合物NPS等效电路模型 | 第34-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 3 纳流体芯片制造 | 第36-46页 |
| 3.1 单一纳流体沟道检测芯片制造 | 第36-41页 |
| 3.1.1 Pt电极及纳米沟道制作 | 第36-38页 |
| 3.1.2 PDMS芯片基片制作 | 第38-39页 |
| 3.1.3 芯片键合 | 第39-40页 |
| 3.1.4 单一纳流体沟道电化学阻抗检测 | 第40-41页 |
| 3.2 聚丙烯酰胺NPS芯片制造 | 第41-45页 |
| 3.2.1 玻璃微纳流体基片的制作 | 第41-42页 |
| 3.2.2 NPS的集成 | 第42-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 阻抗检测实验结果与分析 | 第46-60页 |
| 4.1 阻抗实验检测方法及设备 | 第46-47页 |
| 4.2 阻抗检测实验数据预处理 | 第47-49页 |
| 4.2.1 Zsimpwin数据拟合 | 第47页 |
| 4.2.2 微沟道中离子的迁移电阻 | 第47-48页 |
| 4.2.3 纳米多孔结构长度的修正 | 第48-49页 |
| 4.3 电解液浓度对阻抗的影响 | 第49-53页 |
| 4.3.1 电解液浓度与幅频、相频的关系 | 第49-50页 |
| 4.3.2 电解液浓度与实部虚部的关系 | 第50-53页 |
| 4.4 NPS几何特征对阻抗的影响 | 第53-56页 |
| 4.4.1 NPS交联比与阻抗幅值的关系 | 第53-54页 |
| 4.4.2 NPS交联比与阻抗特征值的关系 | 第54-56页 |
| 4.4.3 NPS孔径与阻抗特征值的关系 | 第56页 |
| 4.5 FITC电动富集实验 | 第56-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |