摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
1.1 前言 | 第10-13页 |
1.1.1 NO_x的生成机理 | 第10-11页 |
1.1.2 NO_x排放控制标准 | 第11-13页 |
1.2 氮氧化物排放控制技术 | 第13-18页 |
1.2.1 NO催化分解技术 | 第15页 |
1.2.2 NO_x储存-还原(NSR)技术 | 第15-16页 |
1.2.3 碳氢化合物选择性催化还原(HC-SCR)技术 | 第16-17页 |
1.2.4 NH_3-选择性催化还原(NH_3-SCR)技术 | 第17-18页 |
1.3 NH_3-SCR催化剂 | 第18-23页 |
1.3.1 贵金属催化体系 | 第18-19页 |
1.3.2 钒钨钛催化体系 | 第19页 |
1.3.3 氧化物催化体系 | 第19-20页 |
1.3.4 分子筛催化体系 | 第20-23页 |
1.4 SAPO-34分子筛简介 | 第23-26页 |
1.4.1 SAPO-34分子筛的物理性质 | 第23-24页 |
1.4.2 SAPO-34分子筛合成 | 第24-25页 |
1.4.3 SAPO-34分子筛合成的影响因素 | 第25-26页 |
1.5 一步法制备SAPO-34(CHA结构)分子筛 | 第26-27页 |
1.6 本文研究内容 | 第27-28页 |
第二章 铜含量对Cu-SAPO-34分子筛NH_3-SCR活性的影响 | 第28-48页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 催化剂的制备 | 第28-31页 |
2.2.1 实验仪器及化学试剂 | 第28-29页 |
2.2.2 催化剂的制备 | 第29-31页 |
2.3 催化剂的表征 | 第31-33页 |
2.3.1 X射线衍射(X-ray diffraction)分析 | 第31页 |
2.3.2 比表面积(BET)分析 | 第31页 |
2.3.3 扫描电镜(SEM)分析 | 第31页 |
2.3.4 电感耦合等离子体(ICP-OES) | 第31页 |
2.3.5 氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第31-32页 |
2.3.6 红外分析(FT-IR) | 第32页 |
2.3.7 电子自旋共振(EPR) | 第32页 |
2.3.8 NH_3氧化实验 | 第32页 |
2.3.9 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第32-33页 |
2.4 SCR催化剂的活性评价方法 | 第33-34页 |
2.5 实验结果与讨论 | 第34-47页 |
2.5.1 Cu-SAPO-34的Cu含量分析 | 第34页 |
2.5.2 NH_3-SCR活性评价 | 第34-36页 |
2.5.3 催化剂的表征分析 | 第36-47页 |
2.6 本章小结 | 第47-48页 |
第三章 铜含量对Cu-SAPO-34分子筛水热稳定性的影响 | 第48-63页 |
3.1 引言 | 第48页 |
3.2 主要实验仪器 | 第48页 |
3.3 催化剂的水热老化处理 | 第48-49页 |
3.4 催化剂的表征 | 第49-51页 |
3.4.1 X射线衍射(X-ray diffraction)分析 | 第49-50页 |
3.4.2 比表面积(BET)分析 | 第50页 |
3.4.3 扫描电镜(SEM)分析 | 第50页 |
3.4.4 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第50页 |
3.4.5 电子自旋共振(EPR) | 第50页 |
3.4.6 NH_3氧化实验 | 第50-51页 |
3.4.7 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第51页 |
3.5 SCR催化剂的活性评价方法 | 第51页 |
3.6 实验结果与讨论 | 第51-62页 |
3.6.1 Cu-SAPO-34的Cu含量分析 | 第51-52页 |
3.6.2 NH_3-SCR活性评价 | 第52-53页 |
3.6.3 催化剂的表征分析 | 第53-62页 |
3.7 本章小结 | 第62-63页 |
第四章 结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-74页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |