| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-37页 |
| 1.1 软磁材料的发展 | 第14-22页 |
| 1.1.1 软磁金属合金 | 第15页 |
| 1.1.2 软磁铁氧体 | 第15页 |
| 1.1.3 非晶和纳米晶软磁材料 | 第15-19页 |
| 1.1.4 高频软磁薄膜 | 第19页 |
| 1.1.5 Fe基软磁薄膜及其高频磁性 | 第19-22页 |
| 1.2 本论文的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-37页 |
| 第二章 理论模型 | 第37-55页 |
| 2.1 铁磁材料的静态磁性参数 | 第37-38页 |
| 2.2 铁磁材料的退磁场 | 第38-39页 |
| 2.3 磁各向异性 | 第39-42页 |
| 2.3.1 磁晶各向异性 | 第39-40页 |
| 2.3.2 形状各向异性 | 第40页 |
| 2.3.3 应力各向异性 | 第40-41页 |
| 2.3.4 交换各向异性 | 第41页 |
| 2.3.5 感生各向异性 | 第41-42页 |
| 2.4 磁畴结构 | 第42-47页 |
| 2.4.1 磁畴和畴壁 | 第43-44页 |
| 2.4.2 薄膜中的畴结构 | 第44-45页 |
| 2.4.3 薄膜中的条纹畴 | 第45-47页 |
| 2.5 软磁薄膜的高频磁共振 | 第47-52页 |
| 2.5.1 不同磁结构的共振方式 | 第47-48页 |
| 2.5.2 磁矩的进动-LLG方程 | 第48-49页 |
| 2.5.3 铁磁薄膜的高频磁共振 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 第三章 样品的制备及性能表征 | 第55-80页 |
| 3.1 薄膜样品制备的方法 | 第55-59页 |
| 3.1.1 电化学沉积 | 第55-58页 |
| 3.1.2 磁控溅射 | 第58-59页 |
| 3.2 样品性能的表征 | 第59-76页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD) | 第60-61页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第61-62页 |
| 3.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第62-63页 |
| 3.2.4 能量色散谱(EDS) | 第63页 |
| 3.2.5 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES) | 第63-64页 |
| 3.2.6 X射线光电子谱仪(XPS) | 第64-65页 |
| 3.2.7 轮廓测试仪(Surface Profile-meter) | 第65页 |
| 3.2.8 拉曼(Raman) | 第65-66页 |
| 3.2.9 原子力或磁力显微镜(AFM & MFM) | 第66-67页 |
| 3.2.10 振动样品磁强计(VSM) | 第67-69页 |
| 3.2.11 磁光克尔仪(MOKE) | 第69页 |
| 3.2.12 电子自旋共振(ESR) | 第69-74页 |
| 3.2.13 矢量网络分析仪(VNA) | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 第四章 FeCo薄膜高频动态磁性的研究 | 第80-130页 |
| 4.1 磁场诱导薄膜面内单轴各向异性 | 第80-84页 |
| 4.1.1 实验条件 | 第81页 |
| 4.1.2 薄膜的成分和结构 | 第81-83页 |
| 4.1.3 薄膜的高频磁性 | 第83页 |
| 4.1.4 总结 | 第83-84页 |
| 4.2 诱导磁场强度对FeCo薄膜高频动态磁性的影响 | 第84-88页 |
| 4.2.1 实验条件 | 第84页 |
| 4.2.2 不同诱导磁场强度FeCo薄膜的结构和成分 | 第84-85页 |
| 4.2.3 不同诱导磁场强度FeCo薄膜的静态磁特性 | 第85-86页 |
| 4.2.4 不同诱导磁场强度FeCo薄膜的高频磁特性 | 第86-88页 |
| 4.2.5 总结 | 第88页 |
| 4.3 诱导磁场方向对FeCo薄膜高频动态磁性的影响 | 第88-92页 |
| 4.3.1 实验条件 | 第88页 |
| 4.3.2 不同磁场诱导方向下FeCo薄膜的结构和成分 | 第88-89页 |
| 4.3.3 不同磁场诱导方向下FeCo薄膜的静态磁性 | 第89-91页 |
| 4.3.4 不同磁场诱导方向下FeCo薄膜的高频动态磁性 | 第91-92页 |
| 4.3.5 总结 | 第92页 |
| 4.4 不同薄膜厚度对FeCo薄膜高频动态磁性的影响 | 第92-100页 |
| 4.4.1 实验条件 | 第93页 |
| 4.4.2 不同厚度FeCo薄膜的结构和成分 | 第93-94页 |
| 4.4.3 不同厚度FeCo薄膜的形貌 | 第94-95页 |
| 4.4.4 不同厚度FeCo薄膜的静态和动态磁性 | 第95-97页 |
| 4.4.5 不同厚度FeCo薄膜的阻尼因子 | 第97-98页 |
| 4.4.6 无诱导场下不同厚度FeCo薄膜的结果 | 第98-100页 |
| 4.4.7 总结 | 第100页 |
| 4.5 测量薄膜4πM_s和H_k值方法的比较 | 第100-109页 |
| 4.5.1 实验条件 | 第101页 |
| 4.5.2 理论公式 | 第101-102页 |
| 4.5.3 三种方法所得的4πM_s和H_k结果及其对比 | 第102-106页 |
| 4.5.4 H_k对ESR和VNA-FMR方法所得结果的影响 | 第106-109页 |
| 4.5.5 总结 | 第109页 |
| 4.6 FeCo-RGO复合薄膜高频磁性的研究 | 第109-117页 |
| 4.6.1 实验过程 | 第109-111页 |
| 4.6.2 FeCo-RGO复合薄膜的结构 | 第111-114页 |
| 4.6.3 FeCo-RGO复合薄膜的形貌 | 第114-115页 |
| 4.6.4 FeCo-RGO复合薄膜的静态和高频动态磁性 | 第115-117页 |
| 4.6.5 总结 | 第117页 |
| 4.7 本章总结 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-130页 |
| 第五章 FeNi薄膜高频磁性的研究 | 第130-158页 |
| 5.1 不同厚度FeNi薄膜的铁磁共振 | 第130-136页 |
| 5.1.1 实验条件 | 第130-131页 |
| 5.1.2 不同厚度FeNi薄膜的结构和形貌 | 第131-132页 |
| 5.1.3 不同厚度FeNi薄膜的静态磁性及畴结构 | 第132-134页 |
| 5.1.4 不同厚度FeNi薄膜的高频磁性表征 | 第134-136页 |
| 5.1.5 总结 | 第136页 |
| 5.2 条纹畴FeNi薄膜的各向异性 | 第136-139页 |
| 5.2.1 条纹畴FeNi薄膜的基本参数 | 第136-138页 |
| 5.2.2 条纹畴FeNi薄膜的各向异性 | 第138-139页 |
| 5.2.3 总结 | 第139页 |
| 5.3 FeNi薄膜静态磁化过程的研究 | 第139-144页 |
| 5.3.1 实验条件 | 第140页 |
| 5.3.2 台阶状FeNi薄膜的结构和形貌 | 第140-141页 |
| 5.3.3 台阶状FeNi薄膜的静态磁性 | 第141-142页 |
| 5.3.4 台阶状FeNi薄膜的微磁学模拟 | 第142-144页 |
| 5.3.5 总结 | 第144页 |
| 5.4 条纹畴FeNi薄膜的动态磁滞 | 第144-150页 |
| 5.4.1 条纹畴薄膜的静态磁性 | 第144-146页 |
| 5.4.2 条纹畴薄膜的动态磁滞 | 第146-150页 |
| 5.4.3 总结 | 第150页 |
| 5.5 不同成分FeNi薄膜的条纹畴 | 第150-152页 |
| 5.5.1 实验条件 | 第150页 |
| 5.5.2 不同成分FeNi薄膜的结构 | 第150-151页 |
| 5.5.3 不同成分FeNi薄膜的静态和高频动态磁性 | 第151页 |
| 5.5.4 总结 | 第151-152页 |
| 5.6 总结 | 第152-153页 |
| 参考文献 | 第153-158页 |
| 第六章 FeGa薄膜高频动态磁性的研究 | 第158-192页 |
| 6.1 电化学沉积FeGa薄膜 | 第158-165页 |
| 6.1.1 电沉积FeGa薄膜的实验条件 | 第158-160页 |
| 6.1.2 FeGa电沉积的沉积电位 | 第160-161页 |
| 6.1.3 FeGa电沉积的溶液添加剂与pH值 | 第161-164页 |
| 6.1.4 FeGa电沉积的沉积电位 | 第164-165页 |
| 6.1.5 总结 | 第165页 |
| 6.2 应力对FeGa薄膜高频磁性的影响 | 第165-172页 |
| 6.2.1 实验过程 | 第166-167页 |
| 6.2.2 不同应力下FeGa薄膜的结构 | 第167-168页 |
| 6.2.3 不同应力下FeGa薄膜的形貌 | 第168-169页 |
| 6.2.4 不同应力下FeGa薄膜的静态磁性 | 第169-171页 |
| 6.2.5 不同应力下FeGa薄膜的磁致伸缩系数 | 第171页 |
| 6.2.6 不同应力下FeGa薄膜的高频磁性 | 第171-172页 |
| 6.2.7 总结 | 第172页 |
| 6.3 斜溅射FeGa薄膜的高频磁性 | 第172-175页 |
| 6.3.1 实验条件 | 第172-173页 |
| 6.3.2 斜溅射FeGa薄膜的结构和形貌 | 第173-174页 |
| 6.3.3 斜溅射FeGa薄膜的静态和高频动态磁性 | 第174-175页 |
| 6.3.4 总结 | 第175页 |
| 6.4 斜溅射FeGaN薄膜的高频磁性 | 第175-179页 |
| 6.4.1 实验条件 | 第176页 |
| 6.4.2 斜溅射FeGaN薄膜的结构 | 第176-178页 |
| 6.4.3 斜溅射FeGaN薄膜的静态和高频磁性 | 第178-179页 |
| 6.4.4 总结 | 第179页 |
| 6.5 斜溅射FeGaB薄膜的高频磁性 | 第179-182页 |
| 6.5.1 实验条件 | 第179页 |
| 6.5.2 斜溅射FeGaB薄膜的结构 | 第179-180页 |
| 6.5.3 斜溅射FeGaB薄膜的静态和动态磁性 | 第180-181页 |
| 6.5.4 总结 | 第181-182页 |
| 6.6 斜溅射FeGa薄膜的阻尼因子 | 第182-184页 |
| 6.6.1 FeGa系薄膜的面内铁磁共振 | 第182-183页 |
| 6.6.2 FeGa系薄膜的阻尼因子 | 第183-184页 |
| 6.6.3 总结 | 第184页 |
| 6.7 本章总结 | 第184-185页 |
| 参考文献 | 第185-192页 |
| 附录 软磁铁氧体纳米颗粒的制备方法及应用 | 第192-242页 |
| 1. 不同DMF浓度下的铁氧体纳米颗粒 | 第193-197页 |
| 1.1 实验条件 | 第193页 |
| 1.2 不同DMF浓度下纳米颗粒的结构 | 第193-194页 |
| 1.3 不同DMF浓度下纳米颗粒的形貌 | 第194-196页 |
| 1.4 不同DMF浓度下纳米颗粒的磁性 | 第196-197页 |
| 2. 不同烧结温度下的铁氧体纳米颗粒 | 第197-201页 |
| 2.1 实验条件 | 第197-198页 |
| 2.2 不同烧结温度下铁氧体纳米颗粒的结构 | 第198-199页 |
| 2.3 不同烧结温度下铁氧体纳米颗粒的形貌 | 第199-200页 |
| 2.4 不同烧结温度下铁氧体纳米颗粒的磁性 | 第200-201页 |
| 3. 铁氧体纳米颗粒的形成过程和机理 | 第201-202页 |
| 4. 制备铁氧体纳米颗粒方法的总结 | 第202-206页 |
| 4.1 实验条件 | 第203页 |
| 4.2 铁氧体纳米颗粒的结构 | 第203页 |
| 4.3 铁氧体纳米颗粒的形貌 | 第203-205页 |
| 4.4 铁氧体纳米颗粒的磁性 | 第205-206页 |
| 5. 其它MFe_2O_4纳米颗粒的合成 | 第206页 |
| 6. 与其他制备方法的比较 | 第206-209页 |
| 7. 制备磁赤铁矿纳米颗粒 | 第209-219页 |
| 7.1 实验条件 | 第209-210页 |
| 7.2 磁赤铁矿纳米颗粒的形成过程 | 第210-211页 |
| 7.3 不同烧结温度纳米颗粒的表面形貌 | 第211-212页 |
| 7.4 不同烧结温度纳米颗粒的结构 | 第212页 |
| 7.5 磁赤铁矿纳米颗粒的结构和形貌 | 第212-214页 |
| 7.6 不同烧结温度纳米颗粒的磁性 | 第214-215页 |
| 7.7 磁赤铁矿纳米颗粒的光催化活性 | 第215-216页 |
| 7.8 与其它制备磁赤铁矿纳米颗粒方法的比较 | 第216-218页 |
| 7.9 不同升温速率的磁赤铁矿纳米颗粒 | 第218-219页 |
| 7.10 磁赤铁矿纳米颗粒总结 | 第219页 |
| 8. 非金属掺杂铁氧体纳米颗粒 | 第219-229页 |
| 8.1 实验条件 | 第220页 |
| 8.2 硫掺杂钴铁氧体纳米颗粒 | 第220-225页 |
| 8.3 碳掺杂钴铁氧体纳米颗粒 | 第225-228页 |
| 8.4 氮掺杂钴铁氧体纳米颗粒 | 第228-229页 |
| 9. 总结 | 第229-231页 |
| 参考文献 | 第231-242页 |
| 在学期间的研究成果 | 第242-245页 |
| 致谢 | 第245页 |
