| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 前言 | 第9-21页 |
| 1.1 多铁性材料 | 第9-14页 |
| 1.1.1 多铁性材料的简介 | 第9-11页 |
| 1.1.2 多铁性材料的分类及应用 | 第11-13页 |
| 1.1.3 新型单相多铁性材料 | 第13-14页 |
| 1.2 h-LuFeO_3外延薄膜 | 第14-18页 |
| 1.3 选题依据及主要内容 | 第18-21页 |
| 1.3.1 选题依据 | 第18-19页 |
| 1.3.2 主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 h-LuFeO_3外延薄膜的制备及表征方法 | 第21-33页 |
| 2.1 脉冲激光沉积系统 | 第21-23页 |
| 2.2 LuFeO_3靶材的制备 | 第23-25页 |
| 2.3 衬底的选择 | 第25-26页 |
| 2.4 薄膜的制备流程 | 第26-28页 |
| 2.4.1 衬底清洗 | 第26页 |
| 2.4.2 工艺流程 | 第26-28页 |
| 2.5 薄膜结构及性能参数的表征 | 第28-29页 |
| 2.5.1 XRD射线衍射 | 第28页 |
| 2.5.2 原子力显微镜(AFM)及透射电子显微镜(TEM) | 第28-29页 |
| 2.5.3 超导量子干涉仪(SQUID) | 第29页 |
| 2.6 薄膜生长的初步探索 | 第29-32页 |
| 2.7 小结 | 第32-33页 |
| 第3章 工艺参数对h-LuFeO_3外延薄膜生长的影响 | 第33-52页 |
| 3.1 衬底温度对薄膜生长的影响 | 第33-38页 |
| 3.1.1 不同衬底温度下沉积薄膜的XRD分析 | 第33-35页 |
| 3.1.2 不同衬底温度下沉积薄膜的表面形貌 | 第35-38页 |
| 3.2 氧压对薄膜生长的影响 | 第38-41页 |
| 3.2.1 不同氧压下沉积薄膜的XRD分析 | 第38页 |
| 3.2.2 不同氧压下沉积薄膜的表面形貌 | 第38-41页 |
| 3.3 激光能量对薄膜生长的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.1 不同激光能量下沉积薄膜的XRD分析 | 第41-42页 |
| 3.3.2 不同激光能量下沉积薄膜的表面形貌 | 第42-43页 |
| 3.4 退火温度对薄膜结晶质量的影响 | 第43-45页 |
| 3.5 h-LuFeO_3外延薄膜的性质及生长机制 | 第45-50页 |
| 3.5.1 h-LuFeO_3薄膜的外延取向关系 | 第45-48页 |
| 3.5.2 h-LuFeO_3外延薄膜的生长机制 | 第48-50页 |
| 3.6 小结 | 第50-52页 |
| 第4章 h-LuFeO_3外延薄膜的磁性能研究 | 第52-63页 |
| 4.1 h-LuFeO_3外延薄膜的磁性起源 | 第52-53页 |
| 4.2 h-LuFeO_3外延薄膜的磁学性质 | 第53-62页 |
| 4.2.1 60 nm厚度h-LuFeO_3薄膜的磁性 | 第53-55页 |
| 4.2.2 120 nm厚度h-LuFeO_3薄膜的磁性 | 第55-57页 |
| 4.2.3 180 nm厚度h-LuFeO_3薄膜的磁性 | 第57-61页 |
| 4.2.4 薄膜厚度对h-Lu FeO_3磁性的影响 | 第61-62页 |
| 4.3 小结 | 第62-63页 |
| 第5章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 本文总结 | 第63-64页 |
| 5.2 研究展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72页 |
