纳米硫化铜的制备及其性质研究
| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-20页 |
| 1.1 纳米半导体材料 | 第9页 |
| 1.1.1 纳米材料 | 第9页 |
| 1.1.2 纳米半导体材料 | 第9页 |
| 1.1.3 纳米半导体材料的特性 | 第9页 |
| 1.2 纳米硫化铜半导体材料 | 第9-18页 |
| 1.2.1 纳米硫化铜的应用研究 | 第10-16页 |
| 1.2.2 纳米硫化铜的制备 | 第16-18页 |
| 1.3 研究目的与内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-25页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第20-21页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第21页 |
| 2.1.3 原料的选取 | 第21-22页 |
| 2.2 实验方法与步骤 | 第22-24页 |
| 2.2.1 多级花状纳米硫化铜的制备 | 第22页 |
| 2.2.2 管状纳米硫化铜的制备 | 第22页 |
| 2.2.3 六角片状纳米硫化铜的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.4 光学性质表征 | 第23页 |
| 2.2.5 类芬顿催化降解实验 | 第23页 |
| 2.2.6 光催化降解实验 | 第23-24页 |
| 2.3 主要表征方法 | 第24-25页 |
| 第三章 不同形貌纳米硫化铜的制备及表征 | 第25-45页 |
| 3.1 多级花状纳米硫化铜 | 第25-34页 |
| 3.1.1 多级花状结构的形成条件 | 第25-32页 |
| 3.1.2 产物结构表征 | 第32-34页 |
| 3.2 管状纳米硫化铜 | 第34-36页 |
| 3.2.1 管状结构的形成条件 | 第35页 |
| 3.2.2 产物结构表征 | 第35-36页 |
| 3.3 六角片状纳米硫化铜 | 第36-42页 |
| 3.3.1 六角片状结构的形成条件 | 第36-41页 |
| 3.3.2 产物结构表征 | 第41-42页 |
| 3.4 光学性质研究 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 类芬顿催化降解和光催化降解性能研究 | 第45-53页 |
| 4.1 类芬顿催化降解性能研究 | 第45-50页 |
| 4.1.1 成分因素的影响 | 第45-46页 |
| 4.1.2 环境pH值的影响 | 第46-47页 |
| 4.1.3 纳米硫化铜用量的影响 | 第47-48页 |
| 4.1.4 纳米硫化铜形貌的影响 | 第48-49页 |
| 4.1.5 催化降解反应的动力学研究 | 第49-50页 |
| 4.1.6 催化降解反应的机理分析 | 第50页 |
| 4.2 光催化降解性能研究 | 第50-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
