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扫描干涉场曝光系统中光栅衍射波前控制方法研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第13-27页
    1.1 课题研究背景及意义第13-14页
    1.2 扫描干涉场曝光系统简介第14-16页
    1.3 相关领域的研究现状第16-24页
        1.3.1 工作台位置测量的研究现状第17-19页
        1.3.2 干涉条纹相位测量的研究现状第19-20页
        1.3.3 光栅波前相位调制的研究现状第20-24页
    1.4 主要研究内容和结构安排第24-27页
        1.4.1 论文主要内容第24-25页
        1.4.2 论文结构安排第25-27页
第2章 二维工作台位置测量第27-69页
    2.1 引言第27-28页
    2.2 原型样机工作台测量及精度分析第28-37页
        2.2.1 外差测量方法第28-30页
        2.2.2 测量系统设计第30-32页
        2.2.3 精度分析第32-37页
    2.3 正样设备工作台测量及仿真模拟第37-45页
        2.3.1 双色外差测量方法第37-41页
        2.3.2 仿真模拟及结果讨论第41-45页
    2.4 原型样机测量镜面形检测第45-57页
        2.4.1 两点法检测原理及误差分析第46-49页
        2.4.2 测量镜面形检测算法改进第49-51页
        2.4.3 模拟仿真第51-53页
        2.4.4 实验验证及结果讨论第53-57页
    2.5 正样设备测量镜面形检测第57-66页
        2.5.1 三点法检测原理第58-60页
        2.5.2 零点误差校正第60-61页
        2.5.3 实验验证及结果讨论第61-66页
    2.6 本章小结第66-69页
第3章 干涉条纹相位测量第69-95页
    3.1 引言第69页
    3.2 干涉条纹相位误差第69-71页
    3.3 干涉条纹相位测量第71-79页
        3.3.1 相位测量原理第71-74页
        3.3.2 相位测量误差第74-79页
    3.4 相位测量光路设计及分析第79-93页
        3.4.1 测量模块震动影响第79-84页
        3.4.2 模块化测量光路设计及分析第84-90页
        3.4.3 实验结果及结论第90-93页
    3.5 本章小结第93-95页
第4章 光栅衍射波前调制第95-115页
    4.1 引言第95页
    4.2 光栅衍射波前调制理论模型第95-108页
        4.2.1 光栅衍射波前第95-97页
        4.2.2 全息光栅相位分布第97-100页
        4.2.3 干涉条纹相位锁定第100-103页
        4.2.4 光栅衍射波前调制第103-108页
    4.3 仿真分析与实验验证第108-114页
    4.4 本章小结第114-115页
第5章 总结与展望第115-119页
    5.1 论文工作总结第115-116页
    5.2 展望第116-119页
参考文献第119-129页
在学期间学术成果情况第129-131页
指导教师及作者简介第131-133页
致谢第133-134页

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