基于开尔文探针力显微镜的次表面成像研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-26页 |
| ·次表面成像需求 | 第14-18页 |
| ·纳米电子器件次表面定位与结构检测 | 第14-15页 |
| ·材料纳米缺陷检测 | 第15-16页 |
| ·复合材料中掺杂材料三维分布 | 第16-18页 |
| ·SPM次表面成像技术及发展现状 | 第18-24页 |
| ·扫描微波显微镜 | 第18-19页 |
| ·扫描电容显微镜 | 第19-20页 |
| ·声学原子力显微镜 | 第20-21页 |
| ·静电力显微镜 | 第21-23页 |
| ·不同SPM次表面成像技术比较 | 第23-24页 |
| ·论文主要内容 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第2章 KPFM次表面成像影响因素及参数优化 | 第26-46页 |
| ·KPFM次表面成像分析方法 | 第26-31页 |
| ·KPFM的工作原理 | 第26-27页 |
| ·理论分析模型 | 第27-29页 |
| ·有限元分析模型 | 第29-31页 |
| ·理论模型与有限元模型的比较 | 第31-34页 |
| ·2D有限元模型 | 第31-32页 |
| ·理论计算结果与有限元计算结果的对比 | 第32-33页 |
| ·探针与样品间距及聚合物相对介电常数 | 第33页 |
| ·颗粒的尺寸与位置 | 第33-34页 |
| ·KPFM零维填充材料次表面成像影响因素 | 第34-40页 |
| ·针尖与样品间距、针尖半径和锥角的影响 | 第35-39页 |
| ·颗粒的掩埋深度与尺寸的影响 | 第39-40页 |
| ·KPFM一维填充材料次表面成像影响因素 | 第40-44页 |
| ·材料长度的影响 | 第40-43页 |
| ·一维填充材料局部空间取向的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 聚合物复合材料样品制备及KPFM实验分析 | 第46-50页 |
| ·聚合物复合材料样品制备方法及制备 | 第46-47页 |
| ·KPFM次表面成像实验及结果分析 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 聚合物复合材料三维重构方法 | 第50-62页 |
| ·聚合物内部零维掺杂材料的三维重构 | 第50-56页 |
| ·颗粒尺寸与掩埋深度重构 | 第50-51页 |
| ·有限元仿真计算 | 第51-55页 |
| ·颗粒尺寸与掩埋深度重构方法 | 第55-56页 |
| ·聚合物内部一维掺杂材料的三维重构 | 第56-61页 |
| ·一维掺杂材料长度的重构 | 第56-57页 |
| ·一维掺杂材料半径与掩埋深度的重构 | 第57-60页 |
| ·一维掺杂材料半径与掩埋深度的重构方法 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 KPFM与CR-AFM次表面成像对比 | 第62-68页 |
| ·KPFM与CR-AFM对比分析 | 第62页 |
| ·有限元计算与实验分析 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第6章 总结与展望 | 第68-70页 |
| ·本文工作总结 | 第68-69页 |
| ·下一步工作展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第78页 |
