| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| ·钛及钛合金的特点和应用现状 | 第12-13页 |
| ·钛及钛合金的特点 | 第12页 |
| ·钛及钛合金的应用现状 | 第12-13页 |
| ·钛合金微弧氧化陶瓷膜的特点、研究现状及存在的问题 | 第13-16页 |
| ·钛合金微弧氧化陶瓷膜的特点 | 第13-14页 |
| ·钛合金微弧氧化陶瓷膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·钛合金微弧氧化陶瓷膜存在的问题 | 第15-16页 |
| ·添加剂对微弧氧化处理影响的研究现状 | 第16-20页 |
| ·可溶性添加剂对微弧氧化处理影响的研究现状 | 第16-18页 |
| ·颗粒添加对微弧氧化处理影响的研究现状 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的摩擦学性能 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的摩擦磨损特性 | 第20页 |
| ·影响微弧氧化陶瓷层摩擦磨损性能的因素 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的表面磨损形式 | 第22页 |
| ·本课题的研究目的及创新性 | 第22-23页 |
| ·本课题的研究内容及技术路线 | 第23-25页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| ·技术路线 | 第24-25页 |
| 第2章 实验设备及研究方法 | 第25-30页 |
| ·实验材料及装置 | 第25-26页 |
| ·实验材料及化学试剂 | 第25页 |
| ·微弧氧化设备 | 第25-26页 |
| ·微弧氧化复合陶瓷膜制备 | 第26页 |
| ·试样表面预处理 | 第26页 |
| ·电解液配制 | 第26页 |
| ·微弧氧化工艺流程 | 第26页 |
| ·微弧氧化工艺研究 | 第26-28页 |
| ·电解液配方的选择 | 第26-27页 |
| ·电解液配方的优化 | 第27-28页 |
| ·工艺参数的优化 | 第28页 |
| ·分析测试方法 | 第28-30页 |
| ·微弧氧化膜厚度的测定 | 第28-29页 |
| ·微弧氧化膜层显微组织及相分析 | 第29页 |
| ·微弧氧化膜层耐磨性能测试 | 第29页 |
| ·电化学分析 | 第29-30页 |
| 第3章 微弧氧化工艺研究 | 第30-44页 |
| ·电解液配方的选择 | 第30-34页 |
| ·电解液的组分 | 第30-31页 |
| ·电解液配方的优化 | 第31-34页 |
| ·工艺参数的优化 | 第34-42页 |
| ·电压对膜层表面形貌及厚度的影响 | 第35-37页 |
| ·频率对膜层表面形貌及厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·占空比对膜层表面形貌及厚度的影响 | 第39-41页 |
| ·氧化时间对膜层表面形貌及厚度的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 微弧氧化复合陶瓷膜制备 | 第44-55页 |
| ·SiC/TiO_2复合陶瓷膜的制备 | 第44-49页 |
| ·SiC/TiO_2复合陶瓷膜的表面形貌 | 第44-46页 |
| ·SiC/TiO_2复合陶瓷膜的截面形貌 | 第46-48页 |
| ·SiC/TiO_2复合陶瓷膜的相成分 | 第48-49页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合陶瓷膜的制备 | 第49-52页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合陶瓷膜的表面形貌 | 第49-50页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合陶瓷膜的截面形貌 | 第50-51页 |
| ·SiO_2/TiO_2复合陶瓷膜的相成分 | 第51-52页 |
| ·SiC/TiO_2与SiO_2/TiO_2复合陶瓷膜元素分布 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 微弧氧化复合陶瓷层性能测试 | 第55-64页 |
| ·不同SiC添加量对微弧氧化陶瓷层摩擦性能的影响 | 第55-57页 |
| ·不同SiC添加量对微弧氧化陶瓷层磨损性能的影响 | 第57-59页 |
| ·不同SiO_2添加量对微弧氧化陶瓷层摩擦性能的影响 | 第59-60页 |
| ·不同SiO_2添加量对微弧氧化陶瓷层磨损性能的影响 | 第60-62页 |
| ·耐蚀性能分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
