摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-17页 |
·磁力研磨加工技术概况 | 第10-12页 |
·磁力研磨加工技术的概念 | 第10页 |
·磁力研磨加工装置 | 第10-11页 |
·磁力研磨加工方式的分类 | 第11-12页 |
·磁力研磨加工的机理及特点 | 第12-14页 |
·磁力研磨加工的机理 | 第12-13页 |
·磁力研磨加工的特点 | 第13-14页 |
·磁力研磨加工技术国内外研究水平 | 第14-15页 |
·磁力研磨技术的发展现状 | 第14页 |
·国内外关于磁性磨料制备技术的研究现状 | 第14-15页 |
·课题提出的意义 | 第15页 |
·课题的主要研究内容 | 第15-16页 |
·本章小结 | 第16-17页 |
第二章 磁性磨料制备方法简介 | 第17-27页 |
·磁性磨料简介 | 第17-18页 |
·非结合式磁性磨料 | 第18-19页 |
·结合式磁性磨料 | 第19-23页 |
·粘接法 | 第19-20页 |
·烧结法 | 第20-21页 |
·粉末冶金法 | 第21-22页 |
·机械压嵌法 | 第22页 |
·铸造法 | 第22页 |
·化学方法 | 第22-23页 |
·磁流体研磨中使用的磨料 | 第23-24页 |
·雾化快凝法制备的磁性磨料 | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-27页 |
第三章 气雾化快凝法制备磁性磨料 | 第27-40页 |
·雾化快凝方法概述 | 第27页 |
·雾化快凝技术的原理 | 第27-29页 |
·气雾化快凝法制备磁性磨料的基本过程 | 第29-31页 |
·金属液流释放阶段 | 第29页 |
·金属液流雾化与陶瓷颗粒穿透阶段 | 第29-30页 |
·液滴快速凝固阶段 | 第30-31页 |
·气雾化快凝装置 | 第31-36页 |
·雾化器的结构 | 第31-33页 |
·导流管端部结构 | 第33-35页 |
·陶瓷颗粒输运装置 | 第35-36页 |
·陶瓷颗粒的气力输送过程研究 | 第36-39页 |
·陶瓷颗粒的悬浮机理 | 第36-37页 |
·陶瓷颗粒的自由悬浮速度及最终速度 | 第37-38页 |
·气力输送的密度 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第四章 磁性磨料气雾化快凝法制备过程微观分析 | 第40-55页 |
·熔融金属液破碎机理 | 第40-42页 |
·液流破碎阶段 | 第40页 |
·液滴二次破碎阶段 | 第40-41页 |
·单颗液滴的进一步破碎 | 第41-42页 |
·工艺参数对雾化效果的影响 | 第42-45页 |
·雾化介质种类 | 第42页 |
·雾化介质压力 | 第42-43页 |
·熔融金属液流率 | 第43-44页 |
·金属基体熔融温度对雾化过程的影响 | 第44-45页 |
·其他因素对雾化过程的影响 | 第45页 |
·气体雾化过程的相关问题分析 | 第45-47页 |
·液滴破碎的时间尺度 | 第45-46页 |
·熔融金属液流率 | 第46-47页 |
·陶瓷颗粒增强相的分布机理 | 第47-53页 |
·陶瓷颗粒增强相的穿透行为 | 第48-49页 |
·液滴快速凝固过程中陶瓷颗粒增强相的受力状态 | 第49-51页 |
·Al_2O_3与SiC磁性磨料陶瓷颗粒增强相分布的研究与改进 | 第51-53页 |
·金属基体与陶瓷颗粒增强相之间的界面反应 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第五章 磁力研磨抛光加工中心的研究 | 第55-65页 |
·复杂曲面精密研抛数字化加工机床的结构 | 第55-57页 |
·电磁磨具结构 | 第55-56页 |
·导电测头结构及原理 | 第56-57页 |
·磁性磨料库的结构 | 第57-60页 |
·数字化仿形测量扫描轨迹的改进 | 第60-64页 |
·自由曲面数字化测量技术概述 | 第60页 |
·仿形加工控制系统中扫描方式的改进 | 第60-63页 |
·扫描方式代码编制流程图 | 第63页 |
·触发式扫描测量的过程 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
·全文总结 | 第65页 |
·问题与展望 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
在校期间公开发表的学术论文 | 第72页 |