纳米二氧化硅的温敏改性及其性能研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
主要创新点 | 第9-13页 |
第一章 绪论 | 第13-33页 |
·引言 | 第13页 |
·纳米二氧化硅 | 第13-27页 |
·纳米二氧化硅的制备方法简介 | 第14-17页 |
·气相法 | 第14-15页 |
·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
·微乳液法 | 第15-16页 |
·沉淀法 | 第16-17页 |
·纳米二氧化硅的表面改性 | 第17-22页 |
·偶联剂法 | 第17-19页 |
·醇酯法 | 第19-20页 |
·其他方法 | 第20-22页 |
·纳米二氧化硅的温敏改性 | 第22-24页 |
·温敏改性机理 | 第24-25页 |
·纳米二氧化硅的结构与性能表征 | 第25-27页 |
·结构分析 | 第26页 |
·表面及微观结构分析 | 第26-27页 |
·化学成分及宏观性质分析 | 第27页 |
·选题背景和主要研究内容 | 第27-29页 |
·选题背景 | 第27-28页 |
·研究内容 | 第28-29页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 纳米二氧化硅的制备 | 第33-41页 |
·引言 | 第33页 |
·实验部分 | 第33-35页 |
·试剂与仪器 | 第33-34页 |
·纳米二氧化硅的制备 | 第34页 |
·纳米二氧化硅的纯化 | 第34页 |
·样品的结构分析 | 第34页 |
·样品的性能测试 | 第34-35页 |
·结果与讨论 | 第35-39页 |
·纳米二氧化硅制备工艺优化 | 第35-38页 |
·氨水的用量对粒径和产率的影响 | 第35-36页 |
·反应温度对粒径和产率的影响 | 第36-37页 |
·反应时间对粒径和产率的影响 | 第37页 |
·重复性实验 | 第37-38页 |
·纳米二氧化硅的结构分析 | 第38-39页 |
·红外光谱 | 第38页 |
·XRD结果 | 第38-39页 |
·纳米二氧化硅的性能测试 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-41页 |
第三章 硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅 | 第41-55页 |
·引言 | 第41页 |
·实验部分 | 第41-44页 |
·试剂与仪器 | 第41-42页 |
·偶联剂改性纳米二氧化硅的制备方法 | 第42-43页 |
·样品的结构分析 | 第43页 |
·样品的性能测试 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-52页 |
·偶联剂改性纳米二氧化硅的机理 | 第44-45页 |
·硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅的工艺优化 | 第45-47页 |
·偶联剂用量的选择 | 第45-46页 |
·改性时间的选择 | 第46页 |
·改性温度的选择 | 第46-47页 |
·硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅的结构表征 | 第47-49页 |
·红外光谱分析 | 第47-48页 |
·固体核磁谱图分析 | 第48-49页 |
·硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅的性能测试 | 第49-52页 |
·形貌分析 | 第49页 |
·DLS测试粒径的结果 | 第49-50页 |
·水接触角的分析 | 第50页 |
·在水中的分散 | 第50-51页 |
·在甲苯中的分散 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
第四章 纳米二氧化硅的温敏改性 | 第55-67页 |
·引言 | 第55-56页 |
·实验部分 | 第56-58页 |
·试剂与仪器 | 第56页 |
·制备方法 | 第56-57页 |
·样品的结构分析 | 第57页 |
·样品的性能测试 | 第57-58页 |
·结果与讨论 | 第58-63页 |
·温敏改性纳米二氧化硅的工艺优化 | 第58-61页 |
·改性温度对水接触角的影响 | 第58-59页 |
·单体用量对水接触角的影响 | 第59页 |
·反应时间对水接触角的影响 | 第59-60页 |
·引发剂用量对水接触角的影响 | 第60-61页 |
·温敏改性纳米二氧化硅的结构分析 | 第61-62页 |
·温敏改性纳米二氧化硅的性能测试 | 第62-63页 |
·形貌分析 | 第62页 |
·在水中的分散状况 | 第62-63页 |
·DLS测定其温敏性 | 第63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
第五章 总结论 | 第67-68页 |
·结论 | 第67页 |
·下一步工作建议 | 第67-68页 |
攻读硕士学位期间发表的论文与专利 | 第68页 |
作者简介 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |