CVD金刚石涂层电极气体法掺硼工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 图表清单 | 第9-12页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| ·研究背景与意义 | 第13-14页 |
| ·金刚石简介 | 第14-18页 |
| ·金刚石的结构及性质 | 第14-15页 |
| ·掺硼金刚石电极的结构和性质 | 第15-18页 |
| ·掺硼电极制备的研究现状和应用现状 | 第18-23页 |
| ·掺硼电极制备的研究现状 | 第18-20页 |
| ·掺硼电极的应用现状 | 第20-21页 |
| ·掺硼金刚石电极表征技术 | 第21-23页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 掺硼金刚石电极的制备 | 第24-41页 |
| ·实验设备与方法 | 第24-26页 |
| ·HFCVD 系统简介 | 第24-25页 |
| ·制备方式 | 第25-26页 |
| ·实验步骤 | 第26-28页 |
| ·实验结果与分析 | 第28-37页 |
| ·掺硼浓度的影响 | 第28-31页 |
| ·碳源浓度的影响 | 第31-33页 |
| ·生长温度的影响 | 第33-35页 |
| ·生长气压的影响 | 第35-37页 |
| ·双面方式沉积时金刚石涂层的生长速度 | 第37-39页 |
| ·网状电极制备的初步尝试 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 掺硼金刚石电极应力与膜基结合性能研究 | 第41-56页 |
| ·掺硼金刚石电极残余应力分析 | 第41-47页 |
| ·热应力仿真 | 第41-46页 |
| ·拉曼分析 | 第46-47页 |
| ·掺硼金刚石电极膜基结合性能研究 | 第47-55页 |
| ·膜基结合测定方法 | 第47-48页 |
| ·喷砂影响 | 第48-52页 |
| ·衬底材料影响 | 第52-54页 |
| ·掺硼影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 掺硼金刚石电极的电化学性能 | 第56-65页 |
| ·掺硼金刚石电极的电阻率研究 | 第56-57页 |
| ·电阻率测量原理 | 第56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-57页 |
| ·循环伏安法测试电极 | 第57-64页 |
| ·循环伏安法原理 | 第59页 |
| ·实验装置及步骤 | 第59-60页 |
| ·电化学窗口研究 | 第60-61页 |
| ·可逆性与稳定性研究 | 第61-63页 |
| ·有机物催化电解研究 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第73页 |
