| 中文摘要 | 第1-15页 |
| ABSTRACT | 第15-21页 |
| 符号说明 | 第21-22页 |
| 第一章 绪论 | 第22-38页 |
| ·磁光克尔效应 | 第22-26页 |
| ·磁光克尔效应的起源与发展 | 第22-23页 |
| ·表面磁光克尔效应的发展现状 | 第23-25页 |
| ·磁光椭偏技术的发展现状 | 第25-26页 |
| ·纳米尺度磁性薄膜材料的制备及其性能表征 | 第26-33页 |
| ·纳米尺度磁性薄膜材料的制备 | 第26-29页 |
| ·纳米尺度磁性薄膜材料的性能表征 | 第29-33页 |
| ·论文的选题基础、创新性与研究内容 | 第33-38页 |
| ·选题基础 | 第33-35页 |
| ·论文的创新性 | 第35页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第35-38页 |
| 第二章 磁光克尔效应原理与测试方法 | 第38-47页 |
| ·表面磁光克尔效应的基本原理 | 第38-40页 |
| ·多层膜磁光效应的建模分析 | 第40-41页 |
| ·表面磁光克尔效应仪的构造 | 第41-42页 |
| ·磁光克尔效应的测试方法 | 第42-45页 |
| ·磁光克尔效应仪的技术优势 | 第45-46页 |
| ·纳米尺度薄膜磁光特性研究的关键问题 | 第46页 |
| ·本章总结 | 第46-47页 |
| 第三章 三层薄膜材料的磁光克尔效应研究 | 第47-57页 |
| ·三层薄膜的制备 | 第47-49页 |
| ·三层薄膜材料的理论建模 | 第49-51页 |
| ·Al/Fe/GaAs纳米尺度薄膜磁光性质研究 | 第51-56页 |
| ·覆盖层厚度对磁光克尔偏转角的影响 | 第52-53页 |
| ·入射角对磁光克尔偏转角的影响 | 第53-54页 |
| ·覆盖层材料对磁光克尔偏转角的影响 | 第54-56页 |
| ·本章总结 | 第56-57页 |
| 第四章 磁性材料/各向异性衬底结构材料的磁光克尔效应研究 | 第57-70页 |
| ·磁性材料/各向异性衬底材料的理论建模 | 第58-62页 |
| ·磁性材料/各向异性衬底材料的磁光性质研究 | 第62-69页 |
| ·入射角对磁光克尔偏转角的影响 | 第63-65页 |
| ·衬底介电参数与磁光克尔偏转角的关系讨论 | 第65-66页 |
| ·衬底对光偏振态的影响 | 第66-67页 |
| ·误差率分析 | 第67-69页 |
| ·本章总结 | 第69-70页 |
| 第五章 拓扑绝缘体的磁光性质研究 | 第70-80页 |
| ·拓扑绝缘体材料磁光理论 | 第71-73页 |
| ·Bi_2Te_3与Bi_2Se_3的磁光性质分析 | 第73-78页 |
| ·关于Bi_2Te_3的磁光性质研究 | 第73-76页 |
| ·关于Bi_2Se_3的磁光性质研究 | 第76-78页 |
| ·本章总结 | 第78-80页 |
| 第六章 广义磁光椭偏系统的构建 | 第80-93页 |
| ·广义磁光椭偏技术原理 | 第80-85页 |
| ·磁光椭偏测试平台的搭建 | 第85-88页 |
| ·模拟计算与实验探索 | 第88-92页 |
| ·入射角精度对实验结果的影响 | 第88-89页 |
| ·体材料的磁光椭偏研究 | 第89-92页 |
| ·本章总结 | 第92-93页 |
| 第七章 纳米尺度薄膜材料的磁光椭偏研究 | 第93-104页 |
| ·纳米尺度薄膜磁光椭偏理论研究 | 第93-97页 |
| ·Ta/Fe/GaAs纳米尺度薄膜材料的制备 | 第97-98页 |
| ·纳米尺度Ta/Fe/GaAs薄膜材料的磁光椭偏测试 | 第98-100页 |
| ·磁性材料厚度对磁光耦合系数的影响 | 第100-102页 |
| ·本章总结 | 第102-104页 |
| 第八章 全文总结 | 第104-107页 |
| ·主要研究内容 | 第104-105页 |
| ·主要创新点 | 第105-106页 |
| ·展望与建议 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-118页 |
| 致谢 | 第118-120页 |
| 博士期间已发表的学术论文 | 第120-122页 |
| 附：第一作者英文论文(两篇) | 第122-134页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第134页 |
