热致变色薄膜材料的制备与辐射特性
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 图表目录 | 第9-12页 |
| 1 绪论 | 第12-21页 |
| ·课题研究意义与背景 | 第12-13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-19页 |
| ·课题主要研究内容 | 第19-21页 |
| 2 热致变色薄膜的制备 | 第21-30页 |
| ·磁控溅射系统的原理 | 第21-22页 |
| ·实验系统介绍 | 第22-23页 |
| ·热致变色薄膜样品的制备 | 第23-26页 |
| ·靶材的制备与方法改进 | 第24-25页 |
| ·基片和靶材的清洗和安装 | 第25页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第25-26页 |
| ·薄膜退火处理 | 第26页 |
| ·薄膜沉积速率的测量 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 3 热致变色薄膜材料的表征 | 第30-46页 |
| ·热致变色材料的物相分析 | 第30-33页 |
| ·YSZ基片上薄膜样品的物相分析 | 第30-31页 |
| ·Si基片上薄膜样品的物相分析 | 第31-32页 |
| ·石英玻璃基片上薄膜样品的物相分析 | 第32-33页 |
| ·热致变色薄膜表面形貌和能谱分析 | 第33-43页 |
| ·YSZ基片上薄膜样品表面形貌和能谱分析 | 第33-37页 |
| ·Si基片上薄膜样品表面形貌和能谱分析 | 第37-40页 |
| ·石英玻璃基片上薄膜样品表面形貌和能谱分析 | 第40-43页 |
| ·薄膜材料表面粗糙度分析 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 热致变色薄膜材料的热辐射特性研究 | 第46-69页 |
| ·热辐射性能测试方法 | 第46-48页 |
| ·YSZ基片上热致变色薄膜的辐射特性 | 第48-57页 |
| ·溅射气体氧分压对薄膜辐射特性的影响 | 第48-51页 |
| ·溅射气体压力对薄膜辐射特性的影响 | 第51-52页 |
| ·厚度对薄膜辐射特性的影响 | 第52-55页 |
| ·不同配比对薄膜辐射特性的影响 | 第55-57页 |
| ·Si基片上热致变色薄膜的辐射特性 | 第57-62页 |
| ·溅射气体氧分压对薄膜辐射特性的影响 | 第57-59页 |
| ·溅射气压对薄膜辐射特性的影响 | 第59-60页 |
| ·不同配比对薄膜辐射特性的影响 | 第60-62页 |
| ·石英玻璃基片上热致变色薄膜的辐射特性 | 第62-67页 |
| ·直接在玻璃上镀膜 | 第62-63页 |
| ·采用Ag作为过渡层在石英玻璃基片上镀膜 | 第63-65页 |
| ·采用Al作为过渡层在石英玻璃基片上镀膜 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 5 总结与展望 | 第69-72页 |
| ·总结 | 第69-70页 |
| ·展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
