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12kV三相盘式真空灭弧室的电—磁—热场数值分析

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·课题背景第11-12页
   ·真空开关国内外发展现状第12-13页
     ·国外发展现状第12-13页
     ·国内发展现状第13页
   ·真空开关发展趋势第13-18页
     ·小型化第13-15页
     ·高电压等级第15-17页
     ·大容量化第17-18页
   ·本文内容第18-19页
第二章 12kV 盘式真空灭弧室三维静电场数值分析第19-34页
   ·盘式真空灭弧室结构第19-20页
   ·真空灭弧室结构参数确定第20-24页
     ·主屏蔽罩直径及厚度第20-22页
     ·触头直径第22页
     ·触头开距选择第22-23页
     ·导电杆直径第23-24页
   ·影响真空击穿的各种因素第24-25页
   ·电场分析的数学模型第25-26页
   ·电场强度最值确定方法第26-28页
     ·基本思想第26-27页
     ·计算结果第27-28页
   ·真空灭弧室内部电场分布第28-33页
     ·灭弧室中心平面处电场场强分布第29页
     ·改进屏蔽罩结构后的电位及场强分布第29-30页
     ·触头表面、背面及屏蔽罩上场强分布第30-33页
   ·本章小结第33-34页
第三章 12kV 盘式真空灭弧室的三维涡流场数值分析第34-52页
   ·大电流真空电弧的物理模型第34-37页
     ·真空电弧的收缩现象第35-36页
     ·纵向磁场作用机理第36-37页
   ·电极结构第37-38页
   ·数学模型第38-39页
   ·三维涡流场仿真第39-44页
     ·峰值时纵向磁场分布第40-41页
     ·过零时纵向磁场分布第41-44页
     ·触头表面磁感应矢量 B 分布第44页
   ·磁屏蔽对电弧断口内磁场分布的影响第44-46页
   ·传统两极结构触头磁场第46-49页
   ·滞后时间第49-51页
   ·本章小结第51-52页
第四章 12kV 三相盘式真空灭弧室三维热场数值分析第52-67页
   ·热分析模型第52-53页
   ·热源第53-59页
     ·金属电阻第53-54页
     ·接触电阻第54-58页
     ·接触压力第58-59页
   ·稳态热分析第59-63页
   ·瞬态热分析第63-66页
   ·本章小结第66-67页
第五章 结论第67-69页
参考文献第69-72页
在学研究成果第72-73页
致谢第73页

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