| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米WO_3的基本性质及结构 | 第9-10页 |
| ·WO_3的基本性质 | 第9页 |
| ·WO_3的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·WO_3纳米薄膜的材料的应用 | 第10-13页 |
| ·光、电致变色材料 | 第10-11页 |
| ·光催化剂 | 第11页 |
| ·光解水 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池 | 第12-13页 |
| ·WO_3纳米薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| ·模板法 | 第13-14页 |
| ·化学气相沉积 | 第14页 |
| ·阳极氧化法 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法 | 第15页 |
| ·水热法 | 第15-16页 |
| ·量子点敏化薄膜电极的制备 | 第16-18页 |
| ·自组装单层法 | 第17页 |
| ·电化学沉积法 | 第17页 |
| ·化学浴法 | 第17-18页 |
| ·本课题研究目的与意义 | 第18-20页 |
| 2 纳米片状WO_3薄膜的制备及其光电化学性质的研究 | 第20-41页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验部分 | 第20-23页 |
| ·纳米片状WO_3薄膜形成的原理 | 第20-21页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第21页 |
| ·FTO导电玻璃处理 | 第21-22页 |
| ·薄膜结构表征 | 第22页 |
| ·光电性能测试 | 第22-23页 |
| ·溅射-水热法制备纳米片状WO_3薄膜及光电化学性质研究 | 第23-28页 |
| ·金属钨膜的制备 | 第23页 |
| ·纳米片状WO_3薄膜的制备 | 第23页 |
| ·纳米片状WO_3薄膜结构与形貌的表征 | 第23-27页 |
| ·纳米片状WO_3薄膜光电化学性质 | 第27-28页 |
| ·不同水热条件对纳米片状WO_3薄膜性能的影响 | 第28-39页 |
| ·不同水热反应时间对薄膜性能的影响 | 第28-33页 |
| ·不同水热反应温度对薄膜性能的影响 | 第33-36页 |
| ·不同HNO_3浓度对薄膜性能的影响 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 3 CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜的制备及其光电化学性质研究 | 第41-52页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验部分 | 第41-43页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜制备的原理 | 第41-42页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第42页 |
| ·FTO导电玻璃处理 | 第42页 |
| ·量子点敏化薄膜结构表征 | 第42页 |
| ·光电性能测试 | 第42-43页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜制备及光电性质研究 | 第43-49页 |
| ·纳米片状WO_3薄膜的制备 | 第43页 |
| ·TiCl_4修饰纳米片状WO_3薄膜 | 第43页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜制备 | 第43页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜的表征 | 第43-46页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜的光学性质 | 第46-47页 |
| ·CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜的光电化学性质 | 第47-49页 |
| ·CdS沉积量对CdS量子点敏化纳米片状WO_3薄膜性能的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 4 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-63页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
