| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-31页 |
| 1. 前言 | 第12-14页 |
| 2. 光催化基本原理及光催化活性的影响因素 | 第14-19页 |
| ·光化学反应定律 | 第14页 |
| ·光催化基本原理 | 第14-15页 |
| ·光催化活性的影响因素 | 第15-17页 |
| ·催化剂的晶型 | 第15-16页 |
| ·催化剂的表面性质 | 第16页 |
| ·温度与pH | 第16页 |
| ·催化剂的表面形态 | 第16-17页 |
| ·光照强度的影响 | 第17页 |
| ·催化剂量的影响 | 第17页 |
| ·光催化技术的特点及目前存在的主要问题 | 第17-19页 |
| 3. 氧化铁的性质 | 第19-20页 |
| ·α-Fe_20_3的晶体结构 | 第19-20页 |
| ·α-Fe_2O_3的光电催化性能 | 第20页 |
| 4. A-FE_2O_3的制备方法 | 第20-23页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第20-21页 |
| ·热分解法 | 第21页 |
| ·水热法 | 第21页 |
| ·电化学沉积 | 第21-22页 |
| ·喷雾热解法(SP)与超声喷雾热解(USP) | 第22-23页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第23页 |
| ·电磁管溅射法 | 第23页 |
| 5. 提高Δ-FE_2O_3光电化学性能的方法 | 第23-29页 |
| ·贵金属沉积 | 第24-25页 |
| ·复合半导体 | 第25-26页 |
| ·离子掺杂 | 第26-28页 |
| ·染料光敏化 | 第28页 |
| ·表面氟化 | 第28-29页 |
| 6. 论文选题目的、意义及主要研究内容 | 第29-31页 |
| ·目的和意义 | 第29-30页 |
| ·研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 研究方法 | 第31-37页 |
| 1 化学试剂和仪器 | 第31-33页 |
| ·化学试剂 | 第31-32页 |
| ·仪器 | 第32-33页 |
| 2 测试方法 | 第33-35页 |
| ·样品表征 | 第33-34页 |
| ·XRD测试 | 第33页 |
| ·扫描电镜(SEM)测试 | 第33页 |
| ·XPS测试 | 第33页 |
| ·光致发光(PL)光谱 | 第33-34页 |
| ·拉曼(Raman)光谱 | 第34页 |
| ·紫外可见(UV-Vis)吸收光谱和漫反射光谱 | 第34页 |
| ·表征 | 第34页 |
| ·电化学测试方法 | 第34-35页 |
| ·线性扫描伏安法 | 第34-35页 |
| ·计时电流法 | 第35页 |
| 3 电极的制备 | 第35-37页 |
| ·胶体的配制 | 第35-36页 |
| ·ITO导电玻璃的处理方法 | 第36页 |
| ·制备薄膜氧化铁电极 | 第36-37页 |
| 第三章 氧化铁薄膜光电极的制备及改性探索 | 第37-54页 |
| 1 前言 | 第37-38页 |
| 2 实验方法 | 第38-39页 |
| ·α-Fe_2O_3和Ti-Fe_2O_3薄膜光电极的制备和表征 | 第38页 |
| ·(光)电化学测试 | 第38-39页 |
| 3 结果与讨论 | 第39-53页 |
| ·Ti掺杂对光电化学性能的影响 | 第39-53页 |
| 4 结论 | 第53-54页 |
| 第四章 电化学还原提高氧化铁和掺钛氧化铁光电化学氧化水性能 | 第54-64页 |
| 1 前言 | 第54页 |
| 2 实验方法 | 第54-55页 |
| ·未掺杂α-Fe_20_3和Ti-Fe_2O_3的制备与表征 | 第54页 |
| ·薄膜电极的电化学还原预处理 | 第54-55页 |
| ·(光)电化学测试 | 第55页 |
| 3 实验结果与讨论 | 第55-63页 |
| 4 小结 | 第63-64页 |
| 第五章 电沉积IN提高钛掺杂氧化铁光电化学氧化水性能 | 第64-78页 |
| 1 前言 | 第64-65页 |
| 2 实验方法 | 第65-66页 |
| ·Ti-Fe_2O_3电极的制备 | 第65页 |
| ·Ti-Fe_2O_3电极表面电沉积铟 | 第65页 |
| ·光电化学和电化学测试 | 第65-66页 |
| ·表征 | 第66页 |
| 3 实验结果 | 第66-77页 |
| ·沉积电位对Ti-Fe_2O_3光电化学性能的影响 | 第66-73页 |
| ·材料表征 | 第73-77页 |
| ·吸收光谱 | 第73页 |
| ·荧光光谱 | 第73-74页 |
| ·Raman光谱 | 第74-75页 |
| ·SEM图 | 第75-76页 |
| ·EDAX能谱图 | 第76页 |
| ·XPS能谱 | 第76-77页 |
| 4 小结 | 第77-78页 |
| 第六章 电位对氧化铁和掺钛氧化铁光氧化水电荷转移速率常数的影响 | 第78-87页 |
| 1 前言 | 第78页 |
| 2 理论背景 | 第78-80页 |
| 3 实验方法 | 第80-81页 |
| ·光电极的制备与表征 | 第80-81页 |
| ·(光)电化学测试 | 第81页 |
| 4 结果与讨论 | 第81-86页 |
| ·沉积电位对Ti-Fe_2O_3光电化学性能的影响 | 第81-86页 |
| 5 小结 | 第86-87页 |
| 第七章 总结与展望 | 第87-89页 |
| 1. 总结 | 第87-88页 |
| 2 论文创新点 | 第88页 |
| 3 展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-102页 |
| 附录：接受或发表的论文 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
