| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·微芯片离子分离 | 第9-12页 |
| ·微芯片上的毛细管电泳(Microchip Electrophoresis,MCE) | 第10页 |
| ·微芯片上的固相萃取(Soilid Phase Extraction,SPE) | 第10-11页 |
| ·微芯片上的液-液萃取(Liquid-Liquid Extraction,LLE) | 第11-12页 |
| ·微芯片离子检测 | 第12-14页 |
| ·多相层流萃取原理 | 第14-18页 |
| ·层流 | 第14页 |
| ·多相并行层流 | 第14-16页 |
| ·层流萃取 | 第16-18页 |
| ·芯片设计 | 第18-19页 |
| ·芯片材料 | 第18页 |
| ·通道尺寸 | 第18-19页 |
| ·微芯片计算仿真 | 第19-21页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第21-23页 |
| 第二章 两相流动的实验和理论研究 | 第23-38页 |
| ·实验部分 | 第23-31页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第23-24页 |
| ·实验装置 | 第24-25页 |
| ·实验步骤 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-31页 |
| ·理论计算部分 | 第31-37页 |
| ·基本物理模型 | 第31-32页 |
| ·基本方程组和定解条件 | 第32-34页 |
| ·计算结果 | 第34-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第三章 微通道修饰及其稳定性探讨 | 第38-45页 |
| ·OTS修饰原理 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·芯片通道修饰 | 第39页 |
| ·修饰表面化学稳定性考察 | 第39-40页 |
| ·修饰表面物理表征 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-44页 |
| ·通道修饰结果 | 第40页 |
| ·修饰化学稳定性 | 第40-43页 |
| ·修饰表面物理表征 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第四章 层流萃取铀的实验和理论研究 | 第45-57页 |
| ·研究方法 | 第47-49页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第47页 |
| ·微芯片分离装置 | 第47页 |
| ·铀萃取实验 | 第47页 |
| ·杂质分析实验 | 第47-48页 |
| ·理论模型 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-56页 |
| ·萃取实验结果 | 第49-51页 |
| ·杂质分析结果 | 第51-53页 |
| ·理论计算结果 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 | 第65页 |
