摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-25页 |
·选题的背景及意义 | 第11-12页 |
·CoCrMo 合金及其表面涂层的研究进展 | 第12-15页 |
·CoCrMo 合金 | 第12-13页 |
·CoCrMo 合金的表面涂层 | 第13-15页 |
·Ti-TiN 双层涂层 | 第15-20页 |
·Ti-N 相图 | 第15-16页 |
·TiN 涂层 | 第16-18页 |
·Ti-TiN 双层涂层 | 第18-20页 |
·包埋技术的研究进展 | 第20-23页 |
·包埋技术 | 第20-21页 |
·包埋技术的应用 | 第21-23页 |
·本文研究的主要内容 | 第23-25页 |
第2章 实验材料与实验方法 | 第25-32页 |
·实验材料及试样制备 | 第25-26页 |
·实验材料 | 第25页 |
·试样制备 | 第25-26页 |
·制备设备 | 第26页 |
·包埋反应助剂的选择 | 第26-27页 |
·Ti-TiN 双层涂层的制备工艺流程与研究路线 | 第27-29页 |
·涂层制备设备 | 第27页 |
·渗 Ti 涂层的制备工艺 | 第27-28页 |
·Ti-TiN 双层涂层的制备工艺 | 第28页 |
·研究路线 | 第28-29页 |
·分析测试方法 | 第29-31页 |
·组织结构分析 | 第29-30页 |
·金相组织观察 | 第30-31页 |
·硬度测试 | 第31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第3章 包埋法制备渗 Ti 涂层的研究 | 第32-57页 |
·引言 | 第32页 |
·800℃下包埋反应时间对渗 Ti 涂层的影响 | 第32-38页 |
·800℃下反应时间对渗 Ti 涂层的组织结构与表面形貌的影响 | 第32-34页 |
·800℃下反应时间对渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第34-38页 |
·850℃下包埋反应时间对渗 Ti 涂层的影响 | 第38-43页 |
·850℃下反应时间对渗 Ti 涂层的组织结构与表面形貌的影响 | 第38-40页 |
·850℃下反应时间对渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第40-43页 |
·900℃下包埋反应时间对渗 Ti 涂层的影响 | 第43-48页 |
·900℃下反应时间对渗 Ti 涂层的组织结构与表面形貌的影响 | 第43-45页 |
·900℃下反应时间对渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第45-48页 |
·950℃下包埋反应时间对渗 Ti 涂层的影响 | 第48-53页 |
·950℃下反应时间对渗 Ti 涂层的组织结构与表面形貌的影响 | 第48-50页 |
·950℃下反应时间对渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第50-53页 |
·渗 Ti 涂层的形成机理 | 第53-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第4章 包埋法制备 Ti-TiN 涂层的研究 | 第57-80页 |
·引言 | 第57页 |
·900℃不同氮化时间对 850℃渗 Ti 涂层的影响 | 第57-63页 |
·对 850℃渗 Ti 涂层组织结构和表面形貌的影响 | 第57-59页 |
·对 850℃渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第59-63页 |
·900℃不同氮化时间对 900℃渗 Ti 涂层的影响 | 第63-69页 |
·对 900℃渗 Ti 涂层组织结构和表面形貌的影响 | 第63-65页 |
·对 900℃渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第65-69页 |
·900℃不同氮化时间对 950℃渗 Ti 涂层的影响 | 第69-75页 |
·对 950℃渗 Ti 涂层组织结构和表面形貌的影响 | 第69-72页 |
·对 950℃渗 Ti 涂层截面形貌的影响 | 第72-75页 |
·Ti-TiN 双层涂层的形成机理分析 | 第75-78页 |
·Ti-TiN 双层涂层的显微硬度 | 第78页 |
·本章小结 | 第78-80页 |
第5章 涂层生长的热力学与动力学计算 | 第80-87页 |
·涂层生长的热力学计算 | 第80-83页 |
·渗 Ti 涂层生长的热力学计算 | 第80-82页 |
·TiN 涂层生长的热力学计算 | 第82-83页 |
·涂层生长的动力学计算 | 第83-87页 |
·渗 Ti 涂层生长的动力学计算 | 第83-86页 |
·TiN 涂层生长的动力学计算 | 第86-87页 |
结论 | 第87-88页 |
参考文献 | 第88-95页 |
攻读硕士学位期间发表的论文与专利 | 第95-96页 |
致谢 | 第96页 |