中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
·纳米材料概述 | 第10-15页 |
·前言 | 第10-11页 |
·传统半导体材料简述 | 第11页 |
·半导体纳米材料光催化反应原理 | 第11-15页 |
·半导体光催化的发展方向 | 第15页 |
·可见光催化剂 | 第15-24页 |
·可见光催化剂的概述 | 第15-17页 |
·常见铜基半导体氧化亚铜材料催化剂 | 第17-21页 |
·常见铜基半导体硫化铜材料催化剂 | 第21-24页 |
·选题背景及国内外研究现状 | 第24页 |
·课题来源 | 第24-25页 |
·本课题的研究内容 | 第25-26页 |
第2章 实验材料和表征方法 | 第26-31页 |
·实验试剂和仪器 | 第26-27页 |
·实验试剂 | 第26-27页 |
·实验仪器和设备 | 第27页 |
·材料表征方法及原理 | 第27-30页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
·傅立叶变换红外(FT-IR)光谱分析 | 第27-28页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第28页 |
·氮气吸附-脱附等温线测试(BET) | 第28-29页 |
·广角X-射线衍射(WAXRD)分析 | 第29页 |
·紫外-可见光谱(UV-visible spectroscopy) | 第29-30页 |
·性能测试 | 第30-31页 |
可见光光催化性能测试 | 第30-31页 |
第3章 前室温下分级花状Cu_2O的制备及其高效的光催化活性 | 第31-45页 |
·引言 | 第31页 |
·实验部分 | 第31-32页 |
·可控合成分级花状Cu_2O晶体 | 第31-32页 |
·Cu_2O可见光光催化性能的测试 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-44页 |
·广角X-射线衍射(WAXRD)分析 | 第32-33页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第33-36页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第36-37页 |
·Cu_2O的生长机理 | 第37-38页 |
·N_2吸附-脱附分析 | 第38-39页 |
·紫外可见光谱分析(UV-vis) | 第39-40页 |
·可见光光催化性能曲线 | 第40-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第4章 分级花状空心球CuS的制备及其高效的可见光催化性能 | 第45-56页 |
·引言 | 第45页 |
·实验部分 | 第45-46页 |
·分级花状空心球CuS的合成 | 第45-46页 |
·CuS可见光光催化性能的测试 | 第46页 |
·结果与讨论 | 第46-54页 |
·广角X-射线衍射(WAXRD)及X射线光电子能谱(XPS) | 第46-47页 |
·扫描电子显微镜(SEM)分析及透射电子显微镜(TEM)分 | 第47-51页 |
·CuS的反应机理 | 第51-52页 |
·N2吸附-脱附分析 | 第52-53页 |
·可见光光催化性能曲线 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读学位期间发表的学术论文及申请的专利情况 | 第67-68页 |