| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·多晶硅产业发展现状 | 第9-10页 |
| ·多晶硅的主要性质 | 第9页 |
| ·多晶硅产业现状 | 第9-10页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第10页 |
| ·国内外相关技术的研究现状 | 第10-12页 |
| ·红外图像测温 | 第10-11页 |
| ·多晶硅直径及生长率测量 | 第11-12页 |
| ·本论文的主要内容 | 第12-14页 |
| 第2章 西门子多晶硅生产工艺简介及其控制系统的优化设计 | 第14-17页 |
| ·多晶硅生产工艺 | 第14页 |
| ·改良西门子法多晶硅生产工艺简介 | 第14页 |
| ·多晶硅还原炉的电气控制系统的优化设计 | 第14-17页 |
| 第3章 红外比色测温原理 | 第17-29页 |
| ·红外辐射的测温依据 | 第17-18页 |
| ·红外辐射基础理论 | 第18-24页 |
| ·红外辐射基础概念 | 第18-19页 |
| ·吸收、反射和透射定律 | 第19-20页 |
| ·热辐射基本定律 | 第20-22页 |
| ·黑体、灰体和实际物体 | 第22-24页 |
| ·比色测温法 | 第24-27页 |
| ·比色测温原理 | 第24-25页 |
| ·图像的灰度值与温度关系 | 第25-27页 |
| ·比色测温法的优点 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第4章 双视觉立体系统原理 | 第29-44页 |
| ·预备知识 | 第29-31页 |
| ·齐次坐标 | 第29页 |
| ·常用的坐标系及变换 | 第29-31页 |
| ·单摄像机成像几何模型 | 第31-35页 |
| ·小孔成像模型 | 第32页 |
| ·线性摄像机模型的数学表示 | 第32-33页 |
| ·镜头的几何畸变类型 | 第33-35页 |
| ·非线性摄像机模型的数学表示 | 第35页 |
| ·摄像机标定 | 第35-39页 |
| ·摄像机标定简介 | 第35-36页 |
| ·张正友标定方法 | 第36-39页 |
| ·双视觉测量原理 | 第39-43页 |
| ·极线几何 | 第39-42页 |
| ·视差测距原理 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 图像处理技术在多晶硅还原炉多参量监测中的应用 | 第44-60页 |
| ·图像处理概述 | 第44-45页 |
| ·直方图变换 | 第45-47页 |
| ·直方图的生成 | 第45-46页 |
| ·直方图均衡化 | 第46-47页 |
| ·多晶硅红外图像的去噪 | 第47-52页 |
| ·红外图像中常见噪声 | 第47-48页 |
| ·图像去噪算法 | 第48-52页 |
| ·硅棒图像边缘提取 | 第52-59页 |
| ·常用的边缘提取算子 | 第53-56页 |
| ·Hough变换 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 多晶硅还原炉多参量在线监测系统 | 第60-73页 |
| ·还原炉内多晶硅多参量在线监测系统结构 | 第60-63页 |
| ·还原炉结构 | 第60-61页 |
| ·近红外面阵探测器 | 第61-62页 |
| ·现场防爆电气箱 | 第62页 |
| ·工业计算机 | 第62-63页 |
| ·在线监测系统的工作流程 | 第63-64页 |
| ·比色测温模块的研究 | 第64-66页 |
| ·比色测温系统流程图 | 第64页 |
| ·K值的标定 | 第64-65页 |
| ·温度场显示 | 第65-66页 |
| ·视觉测量模块的研究 | 第66-72页 |
| ·双视觉立体测量的数学模型 | 第66-67页 |
| ·双视觉测量系统流程图 | 第67-68页 |
| ·多晶硅直径测量模拟实验 | 第68-72页 |
| ·多晶硅直径测量界面 | 第72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第7章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·全文总结 | 第73页 |
| ·工作展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 攻读研究生期间发表的学术论文 | 第80页 |