| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 前言 | 第8-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-34页 |
| ·超净高纯试剂的研究现状 | 第10-16页 |
| ·超净高纯试剂的种类与标准 | 第10-12页 |
| ·超净高纯试剂国内外发展状况及存在的问题 | 第12-14页 |
| ·超净高纯试剂配套技术 | 第14-16页 |
| ·超净高纯试剂定量方法 | 第16-19页 |
| ·标准曲线法 | 第16-17页 |
| ·标准加入法 | 第17-19页 |
| ·高纯氢氟酸 | 第19-29页 |
| ·高纯氢氟酸国内外现状及标准 | 第19-20页 |
| ·杂质离子分析 | 第20-29页 |
| ·高纯四甲基氢氧化铵 | 第29-33页 |
| ·高纯四甲基氢氧化铵的应用 | 第29-30页 |
| ·超净高纯四甲基氢氧化铵的制备 | 第30-31页 |
| ·高纯四甲基氢氧化铵标准 | 第31页 |
| ·高纯四甲基氢氧化铵痕量杂质分析 | 第31-33页 |
| ·本课题研究内容及意义 | 第33-34页 |
| 第二章 高纯氢氟酸中痕量杂质分析 | 第34-56页 |
| ·离子色谱法测定高纯氢氟酸中 PO_4~(3-)、SO_4~(2-) | 第35-43页 |
| ·实验容器 | 第35页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第35-37页 |
| ·标准曲线及检测限 | 第37-39页 |
| ·蒸发法 | 第39-40页 |
| ·加盐影响 | 第40-42页 |
| ·精密度、准确度实验 | 第42-43页 |
| ·氢化物-原子荧光法测定氢氟酸中痕量砷 | 第43-50页 |
| ·实验原理 | 第43页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第43-44页 |
| ·分析条件确定 | 第44-47页 |
| ·标准曲线及检测限 | 第47-48页 |
| ·前处理条件 | 第48-49页 |
| ·精密度、准确度实验 | 第49-50页 |
| ·ICP-MS 法测定氢氟酸中痕量金属离子 | 第50-54页 |
| ·实验原理 | 第50页 |
| ·实验试剂及气源 | 第50-51页 |
| ·金属离子分析方法 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第三章 高纯四甲基氢氧化铵中痕量杂质分析 | 第56-65页 |
| ·顶空—气相色谱法测定 TMAH 中残留甲醇 | 第56-62页 |
| ·实验仪器与气源 | 第56-57页 |
| ·实验条件确定 | 第57-60页 |
| ·标准曲线绘制 | 第60-62页 |
| ·ICP-MS 法测定四甲基氢氧化铵中痕量金属离子 | 第62-64页 |
| ·TMAH 中多原子干扰 | 第62页 |
| ·ICP-MS 工作参数 | 第62页 |
| ·标准加入法定量 | 第62-64页 |
| ·方法参数及结果 | 第64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |