| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·硅纳米线及其物理特性 | 第8-9页 |
| ·纳米线的形成机理 | 第9-10页 |
| ·纳米线的光致发光 | 第10-12页 |
| ·硅纳米线研究进展 | 第12-14页 |
| ·硅纳米线的应用及展望 | 第14-16页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 实验方案与测试方法 | 第17-26页 |
| ·硅纳米线的制备方法 | 第17-19页 |
| ·实验方案及样品制备 | 第19-23页 |
| ·测试手段 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 湿法刻蚀制备硅纳米线 | 第26-38页 |
| ·一步法制备硅纳米线 | 第26-27页 |
| ·反应时间与硝酸银浓度对硅纳米线的影响 | 第27-33页 |
| ·表面处理对硅纳米线的影响 | 第33-34页 |
| ·改变硅纳米线的衬底杂质浓度 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 两步法制备硅纳米线 | 第38-45页 |
| ·两步法制备硅纳米线 | 第38-41页 |
| ·模板法制备硅纳米线 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 结论与展望 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |