镁合金微弧氧化电源脉冲参数的影响及优化
| 插图索引 | 第1-10页 |
| 表格索引 | 第10-11页 |
| 摘要 | 第11-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第14页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的发展及研究现状 | 第15-20页 |
| ·微弧氧化技术的发展概况 | 第15页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第15-20页 |
| ·课题研究的内容及意义 | 第20-22页 |
| ·课题研究的内容 | 第20页 |
| ·课题研究的意义 | 第20-22页 |
| 第二章 微弧氧化试验系统以及试验方法 | 第22-28页 |
| ·试验材料 | 第22页 |
| ·试样的制取 | 第22页 |
| ·实验设备 | 第22-24页 |
| ·实验方案 | 第24-28页 |
| ·前处理 | 第24-25页 |
| ·预处理 | 第25页 |
| ·溶液配制 | 第25页 |
| ·微弧氧化处理过程 | 第25页 |
| ·测试与分析方法 | 第25-28页 |
| 第三章 镁合金微弧氧化微区电弧放电机理的研究 | 第28-41页 |
| ·前言 | 第28页 |
| ·微弧氧化成膜过程分析 | 第28-31页 |
| ·膜层表面形貌 | 第28-30页 |
| ·成膜过程 | 第30-31页 |
| ·镁合金微弧氧化热力学和动力学分析 | 第31-34页 |
| ·热力学分析 | 第31-33页 |
| ·动力学分析 | 第33-34页 |
| ·微区电弧放电模型建立 | 第34-35页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜条件及特点 | 第35-40页 |
| ·电解液要求 | 第35-36页 |
| ·导电通道 | 第36-37页 |
| ·初始膜层 | 第37页 |
| ·电场强度 | 第37-38页 |
| ·热量的移散 | 第38页 |
| ·微弧氧化与阳极氧化的区别 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 镁合金微弧氧化对电源的要求 | 第41-53页 |
| ·脉冲形式的分析 | 第41-46页 |
| ·直流和单极性脉冲形式 | 第41-42页 |
| ·双极性脉冲形式 | 第42-45页 |
| ·带放电回路的脉冲电源形式 | 第45-46页 |
| ·不同电源脉冲形式对膜层性能的影响 | 第46-51页 |
| ·膜层生长速度的比较 | 第47-48页 |
| ·膜层组织结构及形貌的比较 | 第48-50页 |
| ·膜层耐蚀性的比较 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 镁合金微弧氧化脉冲参数的优化 | 第53-62页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·工艺参数的匹配 | 第53-57页 |
| ·占空比 | 第53-55页 |
| ·频率 | 第55-57页 |
| ·分析与讨论 | 第57-61页 |
| ·起弧电压 | 第57-58页 |
| ·电压增幅 | 第58-59页 |
| ·成膜质量 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第68页 |
