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硅薄膜太阳电池材料的制备研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-44页
   ·太阳电池的研究现状第10-26页
     ·研究意义第10-12页
     ·第二代太阳电池的研究进展第12-20页
     ·第三代太阳电池的机遇第20-26页
   ·微晶硅薄膜的研究现状第26-33页
     ·降低生长温度第26-30页
     ·提高生长速率第30-31页
     ·控制非晶孕育层的厚度第31-33页
   ·硅纳米线的研究现状第33-38页
     ·准一维纳米硅材料的研究背景第33-34页
     ·硅纳米线的应用研究第34-38页
       ·硅纳米线太阳电池第34-35页
       ·纳米传感器第35-36页
       ·纳米电子器件第36-37页
       ·合成其它纳米材料的模板第37-38页
   ·本论文的主要工作第38-39页
     ·微晶硅薄膜的研究第38-39页
     ·硅纳米线的研究第39页
   ·本章小结第39-40页
 参考文献第40-44页
第二章 硅基材料的制备与表征第44-80页
   ·微晶硅薄膜的制备方法第44-56页
     ·微晶硅薄膜的间接制备法第44-46页
     ·微晶硅薄膜的直接制备法第46-56页
       ·物理气相沉积法(PVD)第46-48页
       ·化学气相沉积法(CVD)第48-56页
   ·硅纳米线的制备方法第56-65页
     ·物理刻蚀法第57-58页
     ·激光烧蚀法第58-59页
     ·溶液生长法第59-60页
     ·热蒸发法第60-64页
     ·化学气相沉积法第64-65页
     ·纳米电化学法第65页
   ·硅基材料的物性表征方法第65-73页
     ·X射线衍射(XRD)第65-66页
     ·拉曼光谱(Raman Spectroscopy)第66-67页
     ·傅立叶变换红外光谱(FTIR)第67-68页
     ·原子力显微镜(AFM)第68-69页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第69-71页
     ·透射电子显微镜(TEM)第71-72页
     ·光学透射谱(Optical Transmission Spectroscopy)第72-73页
     ·光致发光谱(PL)第73页
   ·本章小结第73页
 参考文献第73-80页
第三章 ICP-CVD低温制备微晶硅薄膜的气相输运机制第80-94页
   ·低温制备微晶硅薄膜的意义第80-83页
   ·d_(IS)对硅薄膜物性的影响第83-90页
     ·d_(IS)对硅薄膜微观结构的影响第83-88页
     ·d_(IS)对硅薄膜光学性质的影响第88-90页
   ·ICP-CVD低温制备微晶硅薄膜的气相传输机制第90-91页
   ·本章小结第91-92页
 参考文献第92-94页
第四章 ICP-CVD低温生长硅薄膜的铝诱导晶化及其晶化机理第94-116页
   ·传统金属诱导非晶硅薄膜的晶化机制第94-100页
     ·金属诱导非晶硅薄膜晶化方法第94-95页
     ·金属诱导非晶硅薄膜晶化机理第95-100页
   ·ICP-CVD过程中硅薄膜的铝诱导晶化生长第100-112页
     ·玻璃衬底上硅薄膜的铝诱导晶化生长第100-105页
     ·柔性衬底上硅薄膜的铝诱导晶化生长第105-111页
     ·ICP-CVD过程中铝诱导晶化硅薄膜的原位生长机理第111-112页
   ·本章小结第112-113页
 参考文献第113-116页
第五章 硅纳米线的CVD制备及其光学特性第116-124页
   ·硅纳米线的CVD制备第116-118页
   ·硅纳米线的结构和光学特性第118-122页
     ·硅纳米线的结构第118-121页
     ·硅纳米线的光学特性第121-122页
   ·本章小结第122-123页
 参考文献第123-124页
第六章 总结第124-127页
   ·本论文的主要结论第124-125页
   ·下一步的工作及展望第125-127页
攻读博士学位期间发表的学术论文第127-128页
致谢第128页

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