| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-36页 |
| ·课题背景及意义 | 第14-15页 |
| ·电子束物理气相沉积工艺研究现状 | 第15-18页 |
| ·电子束物理气相沉积原理和特点 | 第15页 |
| ·EB-PVD 的应用 | 第15-18页 |
| ·高硅硅钢基础研究与应用概况 | 第18-24页 |
| ·硅钢进展 | 第18-20页 |
| ·高硅硅钢特点 | 第20-22页 |
| ·高硅硅钢应用与前景 | 第22-24页 |
| ·高硅硅钢制备工艺研究现状 | 第24-34页 |
| ·快凝法 | 第24-26页 |
| ·特殊轧制法 | 第26-28页 |
| ·扩散渗硅法 | 第28-30页 |
| ·喷射成型法 | 第30-31页 |
| ·粉末压延法 | 第31-33页 |
| ·等离子化学气相沉积法 | 第33-34页 |
| ·电沉积——扩散法 | 第34页 |
| ·本文主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 EB-PVD 设备、工艺过程及分析测试方法 | 第36-46页 |
| ·设备及工艺过程 | 第36-38页 |
| ·电子束物理气相沉积设备 | 第36-38页 |
| ·制备过程 | 第38页 |
| ·组织结构分析方法 | 第38-41页 |
| ·金相显微镜(OM)观察 | 第38页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第38-39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS)成分分析 | 第39页 |
| ·织构表征 | 第39-40页 |
| ·Mossbauer 分析 | 第40-41页 |
| ·性能测试 | 第41-46页 |
| ·密度测量 | 第41-42页 |
| ·显微硬度测量 | 第42页 |
| ·电阻率测量 | 第42-43页 |
| ·软磁性能测量 | 第43-46页 |
| 第3章 EB-PVD 制备高硅钢箔工艺研究 | 第46-86页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·单源法 | 第46-57页 |
| ·单源法原材料的制备 | 第46-48页 |
| ·单源法工艺参数选择及实验设计 | 第48-53页 |
| ·蒸发参数对硅含量的影响及硅损失原因分析 | 第53-57页 |
| ·双源法 | 第57-79页 |
| ·靶基距对硅含量的影响 | 第57-60页 |
| ·静止基板下制备的高硅钢箔组织结构分析 | 第60-65页 |
| ·原材料及工艺参数选择 | 第65-67页 |
| ·旋转基板下制备的高硅钢箔组织结构分析 | 第67-79页 |
| ·双源EB-PVD 工艺特点及硅钢箔生长机制分析 | 第79-83页 |
| ·旋转基板下制备的高硅钢箔密度及电磁性能分析 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 第4章 高硅钢箔致密化工艺研究 | 第86-106页 |
| ·引言 | 第86页 |
| ·致密化热处理工艺研究 | 第86-94页 |
| ·热处理工艺设计 | 第86-88页 |
| ·热处理工艺参数对组织结构的影响 | 第88-92页 |
| ·热处理工艺参数对密度及电磁性能的影响 | 第92-94页 |
| ·热压工艺研究 | 第94-104页 |
| ·热压工艺设计 | 第94-95页 |
| ·热压参数对组织结构的影响 | 第95-99页 |
| ·热压参数对密度及性能的影响 | 第99-104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 第5章 高硅钢箔真空退火工艺研究 | 第106-119页 |
| ·引言 | 第106页 |
| ·真空退火工艺设计 | 第106页 |
| ·真空退火工艺参数对组织结构的影响 | 第106-110页 |
| ·工艺参数对相组成的影响 | 第106-108页 |
| ·工艺参数对晶粒大小的影响 | 第108-110页 |
| ·真空退火工艺参数对高硅钢箔性能的影响 | 第110-117页 |
| ·工艺参数对硬度的影响 | 第110-111页 |
| ·工艺参数对电磁性能的影响 | 第111-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 结论 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-134页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第134-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
| 个人简历 | 第137页 |