| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-30页 |
| ·光限幅现象及其主要机制 | 第11-15页 |
| ·光限幅现象 | 第11-12页 |
| ·光限幅机制 | 第12-14页 |
| ·光限幅器简述 | 第14-15页 |
| ·石墨烯的制备及其功能化 | 第15-23页 |
| ·石墨烯的制备 | 第15-20页 |
| ·石墨烯的功能化 | 第20-23页 |
| ·石墨烯的光限幅性能 | 第23-28页 |
| ·GO和石墨烯的光限幅性能 | 第23-26页 |
| ·功能化石墨烯的光限幅性能 | 第26-28页 |
| ·存在的问题以及研究课题的提出 | 第28-30页 |
| 第2章 锌酞菁共价修饰石墨烯及其宽带光限幅响应 | 第30-41页 |
| ·前言 | 第30-31页 |
| ·实验部分 | 第31-33页 |
| ·材料和方法 | 第31-32页 |
| ·氧化石墨烯(GO)的制备 | 第32页 |
| ·GO-COCl的制备 | 第32页 |
| ·GO-PcZn的制备 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-39页 |
| ·样品的溶解性 | 第33页 |
| ·XPS谱图分析 | 第33-34页 |
| ·荧光光谱图 | 第34-35页 |
| ·Raman和FTIR谱图 | 第35-37页 |
| ·热性能分析 | 第37页 |
| ·光限幅性能研究 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-41页 |
| 第3章 石墨烯轴向取代镓酞菁的合成及其强光限幅响应 | 第41-53页 |
| ·前言 | 第41-42页 |
| ·实验部分 | 第42-43页 |
| ·概述 | 第42-43页 |
| ·GO-PcGa的合成 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-51页 |
| ·样品溶解性 | 第43-44页 |
| ·X-射线光电能谱图(XPS) | 第44-45页 |
| ·Raman光谱图 | 第45页 |
| ·紫外-可见和荧光光谱图 | 第45-46页 |
| ·样品的TGA曲线 | 第46-47页 |
| ·FTIR光谱图 | 第47-48页 |
| ·~1H-NMR谱图 | 第48页 |
| ·样品的光限幅性能研究 | 第48-51页 |
| ·结论 | 第51-53页 |
| 第4章 N-(4-苯胺基)咔唑共价修饰氧化石墨烯及其宽带光限幅性能 | 第53-62页 |
| ·前言 | 第53-54页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·概述 | 第54页 |
| ·N-(4-硝基苯基)咔唑的合成 | 第54-55页 |
| ·N-(4-苯胺基)咔唑(Cz-Ph-NH_2)的合成 | 第55页 |
| ·GO-Cz的合成 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-61页 |
| ·X射线光电能谱图 | 第55-56页 |
| ·紫外-可见和荧光光谱图 | 第56-57页 |
| ·FTIR和Raman光谱图 | 第57-58页 |
| ·热性能分析 | 第58-59页 |
| ·光限幅性能研究 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 第5章 高溶解度的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)共价修饰GO | 第62-69页 |
| ·前言 | 第62页 |
| ·实验部分 | 第62-63页 |
| ·概述 | 第63页 |
| ·GO-POSS的制备 | 第63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-68页 |
| ·样品的溶解性 | 第63-64页 |
| ·FTIR和Raman谱图 | 第64-65页 |
| ·紫外可见和荧光光谱图 | 第65-66页 |
| ·GO和GO-POSS的AFM扫描图 | 第66-67页 |
| ·热性能分析 | 第67-68页 |
| ·样品的光限幅性能研究 | 第68页 |
| ·结论 | 第68-69页 |
| 第6章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 附录:硕士研究生期间发表的SCI论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
