| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·纳米WO_3 薄膜材料的研究概况 | 第10-14页 |
| ·WO_3 薄膜电致变色性能研究 | 第10-11页 |
| ·WO_3 薄膜的气敏性能研究 | 第11-14页 |
| ·WO_3 薄膜的基本物理性质 | 第14-15页 |
| ·课题选题的目的和研究内容 | 第15-16页 |
| 2 WO_3及 Ti/WO_3薄膜的制备 | 第16-23页 |
| ·WO_3 薄膜的制备技术及进展 | 第16-18页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第16页 |
| ·溅射镀膜法 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第17页 |
| ·电沉积法 | 第17-18页 |
| ·反应磁控溅射法简介 | 第18-20页 |
| ·磁控溅射机理 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射沉积的特点 | 第19页 |
| ·反应磁控溅射法的优势 | 第19-20页 |
| ·WO_3 薄膜及Ti/WO_3 薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·实验设备与仪器 | 第20-21页 |
| ·实验工艺 | 第21-22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 3 WO_3 薄膜的表征与分析 | 第23-31页 |
| ·膜厚的测定 | 第23-24页 |
| ·透射率的测试 | 第24页 |
| ·物体微结构X 射线衍射测定 | 第24-26页 |
| ·物质成份的X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第26-28页 |
| ·场发射扫描电子显微镜分析(SEM) | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-31页 |
| 4 WO_3及 Ti/WO_3薄膜的结构和光学性能研究 | 第31-41页 |
| ·氧分压对薄膜的性能影响 | 第31-35页 |
| ·氧分压对Ti/WO_3 薄膜沉积速率的影响 | 第31-32页 |
| ·氧分压对薄膜的微结构的影响 | 第32-33页 |
| ·氧分压对透光率和吸光度的影响 | 第33-35页 |
| ·氧分压对光学带隙的影响 | 第35页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第35-37页 |
| ·退火温度对薄膜的微结构影响 | 第35-36页 |
| ·退火温度对薄膜的厚度及透射率影响 | 第36-37页 |
| ·Ti/WO_3薄膜光学常数测定 | 第37-40页 |
| ·薄膜光学常数的计算 | 第37-38页 |
| ·氧分压对薄膜的光学常数的影响 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 5 WO_3薄膜的气敏性能测试与分析 | 第41-54页 |
| ·测试系统的建立 | 第41-43页 |
| ·测试系统的要求 | 第41-42页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第42-43页 |
| ·测试系统的整体结构 | 第43页 |
| ·气敏元件的参数 | 第43-44页 |
| ·WO_3薄膜对于NO_2 的气敏特性 | 第44-48页 |
| ·样品的气敏测试流程 | 第44-45页 |
| ·氧分压对样品气敏特性的影响 | 第45-46页 |
| ·工作温度对样品气敏特性的影响 | 第46-47页 |
| ·样品的重复性和监测范围 | 第47-48页 |
| ·Ti/WO_3薄膜对于NO_2 的气敏特性 | 第48-50页 |
| ·气敏机理分析 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 6 结论与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |