| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 综述 | 第13-57页 |
| 1 光谱分析和分离科学概述 | 第13-14页 |
| 2 分离科学中的固相萃取 | 第14-20页 |
| ·固相萃取基本原理 | 第14-15页 |
| ·固相萃取装置构型 | 第15-16页 |
| ·SPE柱 | 第15-16页 |
| ·SPE盘 | 第16页 |
| ·固相微量萃取器 | 第16页 |
| ·固相萃取的应用 | 第16-19页 |
| ·SPE在生物领域的应用 | 第16-17页 |
| ·SPE在环境分析中的应用 | 第17-18页 |
| ·SPE在微量药物和毒物分析中的应用 | 第18-19页 |
| ·SPE的研究进展及发展趋势 | 第19-20页 |
| 3 吸附分离材料 | 第20-32页 |
| ·吸附分离材料概述 | 第20-21页 |
| ·传统吸附材料的改性及在SPE中的应用 | 第21-25页 |
| ·有机吸附树脂 | 第21-22页 |
| ·纤维 | 第22-23页 |
| ·硅胶 | 第23页 |
| ·活性炭 | 第23-24页 |
| ·纳米材料 | 第24-25页 |
| ·分子印迹聚合物 | 第25-32页 |
| ·发展背景 | 第25页 |
| ·分子印迹技术的基本理论 | 第25-28页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第28-31页 |
| ·分子印迹聚合物在固相萃取中的应用 | 第31-32页 |
| 4 元素的形态分析 | 第32-37页 |
| ·形态分析的基本概念 | 第32页 |
| ·元素的形态分析发展现状 | 第32-37页 |
| ·铝Al | 第32-33页 |
| ·砷As | 第33-34页 |
| ·铬Cr | 第34页 |
| ·汞Hg | 第34-35页 |
| ·铅Pb | 第35-36页 |
| ·锑Sb | 第36页 |
| ·硒Se | 第36-37页 |
| ·锡Sn | 第37页 |
| 5 选题思路 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-57页 |
| 第二章 对甲苯磺胺修饰的硅胶和纳米二氧化硅对金属离子的选择吸附性能及应用 | 第57-72页 |
| 1 引言 | 第57-58页 |
| 2 实验部分 | 第58-61页 |
| ·仪器装置及试剂 | 第58-59页 |
| ·试样的制备 | 第59-60页 |
| ·二氧化硅的化学修饰 | 第60页 |
| ·纳米二氧化硅的制备 | 第60页 |
| ·对甲苯磺胺修饰的二氧化硅的合成 | 第60页 |
| ·静态吸附试验 | 第60-61页 |
| ·动态吸附试验 | 第61页 |
| 3 结果与讨论 | 第61-67页 |
| ·纳米SiO_2的制备及表征 | 第61-62页 |
| ·pH值对吸附的影响 | 第62-63页 |
| ·静态吸附容量 | 第63页 |
| ·吸附剂的稳定性 | 第63页 |
| ·萃取流速优化 | 第63-64页 |
| ·金属离子的洗脱 | 第64页 |
| ·最大试样体积和富集因子 | 第64-65页 |
| ·共存离子的影响 | 第65-66页 |
| ·方法的检出限和精密度 | 第66页 |
| ·实际样品分析 | 第66-67页 |
| 4 小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 第三章 Cr(Ⅲ)印迹聚合物的制备及对Cr(Ⅲ)和Cr(Ⅵ)的形态分析 | 第72-88页 |
| 1 引言 | 第72-73页 |
| 2 实验部分 | 第73-76页 |
| ·仪器装置及试剂 | 第73-74页 |
| ·样品制备及处理 | 第74页 |
| ·印迹聚合物的制备 | 第74页 |
| ·Cr(Ⅵ)的分光光度法测定 | 第74-75页 |
| ·静态吸附试验 | 第75页 |
| ·动态吸附试验 | 第75-76页 |
| 3 结果与讨论 | 第76-83页 |
| ·铬(Ⅲ)印迹及非印迹吸附剂的表征 | 第76-77页 |
| ·富集酸度的影响 | 第77-78页 |
| ·吸附容量 | 第78-79页 |
| ·洗脱条件 | 第79页 |
| ·吸附动力学曲线 | 第79页 |
| ·流速的影响 | 第79-80页 |
| ·吸附剂的稳定性 | 第80页 |
| ·最大试样体积和富集因子 | 第80页 |
| ·印迹吸附剂的选择性 | 第80-82页 |
| ·方法的检出限和精密度 | 第82页 |
| ·实际样品分析 | 第82-83页 |
| 4 小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 第四章 硅胶表面锌(Ⅱ)印迹吸附剂的制备及对锌识别性能研究和应用 | 第88-100页 |
| 1 引言 | 第88-89页 |
| 2 实验部分 | 第89-91页 |
| ·仪器装置及试剂 | 第89-90页 |
| ·样品处理 | 第90页 |
| ·锌离子印迹的氨基功能化硅胶吸附剂的制备 | 第90-91页 |
| ·静态吸附试验 | 第91页 |
| ·动态吸附试验 | 第91页 |
| 3 结果与讨论 | 第91-97页 |
| ·富集酸度的影响 | 第91-92页 |
| ·吸附容量 | 第92-93页 |
| ·洗脱条件的选择 | 第93页 |
| ·流速的影响 | 第93-94页 |
| ·吸附剂的稳定性 | 第94页 |
| ·待测溶液的最大体积和富集因子 | 第94-95页 |
| ·印迹吸附剂的选择性 | 第95页 |
| ·共存离子的影响 | 第95-96页 |
| ·分析的精密度和检出限 | 第96页 |
| ·分析应用 | 第96-97页 |
| 4 小结 | 第97页 |
| 参考文献 | 第97-100页 |
| 第五章 表面接枝钍(Ⅳ)印迹聚合物的制备及分离富集性能研究 | 第100-115页 |
| 1 引言 | 第100-101页 |
| 2 实验部分 | 第101-104页 |
| ·仪器装置及试剂 | 第101页 |
| ·样品处理 | 第101-102页 |
| ·吸附剂的制备 | 第102-103页 |
| ·N-丙基马来酰胺酸修饰硅胶(PMASG)的制备 | 第102页 |
| ·N-邻羧基苯基马来酰胺酸的合成 | 第102页 |
| ·印迹和非印迹聚合物的制备 | 第102-103页 |
| ·静态吸附试验 | 第103-104页 |
| ·动态吸附试验 | 第104页 |
| 3 结果与讨论 | 第104-111页 |
| ·吸附剂的制备 | 第104-105页 |
| ·N-邻羧基苯基马来酰胺酸CPMA的结构表征 | 第105页 |
| ·吸附剂的红外光谱表征 | 第105-106页 |
| ·富集酸度的影响 | 第106-107页 |
| ·洗脱条件的选择 | 第107页 |
| ·吸附动力学曲线 | 第107-108页 |
| ·流速的影响 | 第108页 |
| ·最大试样体积和富集因子 | 第108-109页 |
| ·吸附容量 | 第109页 |
| ·吸附剂的稳定性 | 第109-110页 |
| ·印迹吸附剂的选择性 | 第110-111页 |
| ·方法的检出限和精密度 | 第111页 |
| ·实际样品分析 | 第111页 |
| 4 小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第六章 二溴荧光素和槲皮素分子印迹聚合物的合成与性能研究 | 第115-127页 |
| 1 引言 | 第115-116页 |
| 2 实验部分 | 第116-118页 |
| ·仪器装置及试剂 | 第116页 |
| ·二溴荧光素和丙烯酰胺相互作用的荧光光谱研究 | 第116页 |
| ·聚合物的合成 | 第116-117页 |
| ·二溴荧光素分子印迹聚合物的合成 | 第116-117页 |
| ·槲皮素印迹聚合物的合成 | 第117页 |
| ·结合能力试验 | 第117页 |
| ·选择性结合试验 | 第117-118页 |
| 3 结果与讨论 | 第118-125页 |
| ·二溴荧光素与丙烯酰胺的相互作用 | 第118-119页 |
| ·印迹聚合物的底物结合能力 | 第119-122页 |
| ·底物选择性 | 第122-125页 |
| ·二溴荧光素印迹聚合物的底物选择性 | 第122-123页 |
| ·槲皮素印迹聚合物的底物选择性 | 第123-125页 |
| 4 小结 | 第125页 |
| 参考文献 | 第125-127页 |
| 附录 | 第127-133页 |
| 主要结论和创新 | 第127-128页 |
| 结合本论文的一些展望 | 第128-130页 |
| 在读期间论文 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 作者简历 | 第133页 |
