摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-27页 |
·论文研究的资助来源 | 第15页 |
·论文研究的意义 | 第15-16页 |
·分子筛晶化机理 | 第16-18页 |
·成核机理 | 第16-17页 |
·晶核生长机理 | 第17-18页 |
·分子筛的制备方法 | 第18-24页 |
·水热合成法 | 第18-19页 |
·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
·溶剂热合成法 | 第20页 |
·微波辐射合成法 | 第20-21页 |
·空间限制法 | 第21-22页 |
·组装法 | 第22页 |
·干凝胶转换(DGC)法 | 第22页 |
·添加导向剂法 | 第22-23页 |
·蒸汽相法 | 第23页 |
·超声波合成法 | 第23-24页 |
·分子筛的应用 | 第24-26页 |
·论文研究的内容 | 第26-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-30页 |
·化学试剂与实验仪器、测试及表征 | 第27-28页 |
·化学试剂 | 第27页 |
·实验仪器、测试及表征 | 第27-28页 |
·分子筛的制备 | 第28-30页 |
·常规水热法 | 第28页 |
·空间限制法 | 第28页 |
·超声波辐射法 | 第28-29页 |
·分子筛的制备流程图 | 第29-30页 |
第三章 A型分子筛的制备及表征 | 第30-66页 |
·空间限制法制备A型分子筛 | 第30-40页 |
·合成体系3.47Na_2O:Al_2O_3:2.2SiO_2:153.6H_2O | 第30-32页 |
·合成体系6.04Na_2O:Al_2O_3:2.8SiO_2:114H_2O | 第32-33页 |
·合成体系5.57Na_2O:Al_2O_3:2.58SiO_2:228.9H_2O | 第33-36页 |
·合成体系5.85Na_2O:Al_2O_3:2.7SiO_2:155H_2O | 第36-40页 |
·超声波辐射法制备A型分子筛 | 第40-63页 |
·合成体系5.57Na_2O:Al_2O_3:2.58SiO_2:228.9H_2O | 第40-49页 |
·合成体系摩尔比5.85Na_2O:Al_2O_3:2.3SiO_2:105H_2O | 第49-57页 |
·无加热体系5.85Na_2O:2.30SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第57-63页 |
·小结 | 第63-66页 |
第四章 X型分子筛的制备及表征 | 第66-92页 |
·空间限制法制备X型分子筛 | 第66-74页 |
·合成体系5.80Na_2O:Al_2O_3:2.98SiO_2:4.28KOH:119H_2O | 第66-70页 |
·合成体系6.07Na_2O:Al_2O_3:4.23SiO_2:103.8H_2O | 第70-74页 |
·超声波辐射法合成X型分子筛 | 第74-90页 |
·合成体系5.85Na_2O:2.7SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第74-76页 |
·合成体系5.85Na_2O:3.0SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第76-81页 |
·合成体系5.85Na_2O:3.3SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第81-87页 |
·不同硅铝比对合成X型分子筛的影响 | 第87-90页 |
·小结 | 第90-92页 |
第五章 超声波辐射法合成纳米复合A/X型分子筛 | 第92-100页 |
·体系5.85Na_2O:2.7SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第92-96页 |
·XRD表征分析 | 第92-93页 |
·BET表征分析 | 第93页 |
·TEM照片分析 | 第93页 |
·FT-IR表征分析 | 第93-94页 |
·超声波晶化时间对合成复合型分子筛的影响 | 第94-95页 |
·机械搅拌速度对合成复合分子筛的影响 | 第95-96页 |
·体系5.85Na_2O:3.0SiO_2:Al_2O_3:105H_2O | 第96-98页 |
·XRD表征分析 | 第96-98页 |
·BET表征分析 | 第98页 |
·小结 | 第98-100页 |
第六章 结果与讨论 | 第100-107页 |
·合成体系的影响 | 第100-103页 |
·不同体系对空间限制法制备分子筛的影响 | 第100-102页 |
·不同体系对超声波辐射法制备分子筛的影响 | 第102-103页 |
·晶化时间的影响 | 第103-104页 |
·晶化温度的影响 | 第104-105页 |
·陈化时间的影响 | 第105-106页 |
·制备方法的影响 | 第106-107页 |
结论与展望 | 第107-110页 |
参考文献 | 第110-117页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及专利 | 第117-119页 |
致谢 | 第119页 |