| 中文摘要 | 第1-9页 |
| 英文摘要 | 第9-11页 |
| 第一章 综述 | 第11-22页 |
| ·磁记录的发展历史 | 第11-13页 |
| ·磁记录物理简介 | 第13-15页 |
| ·磁记录的写读过程 | 第13-14页 |
| ·磁记录介质 | 第14-15页 |
| ·提高磁记录密度面临的问题 | 第15-16页 |
| ·反点阵阵列膜的研究现状和意义 | 第16-17页 |
| ·本论文主要研究的内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 薄膜的制备及其性能表征方法 | 第22-37页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-26页 |
| ·磁控溅射 | 第22-24页 |
| ·离子束溅射 | 第24-25页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第25-26页 |
| ·样品的测试 | 第26-35页 |
| ·表面轮廓分析仪(台阶仪) | 第27-28页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第28-29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·磁性测量系统(MPMS)和振动样品磁强计(VSM) | 第30-32页 |
| ·内转换电子穆斯堡尔谱(CEMS) | 第32-33页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第三章 Fe反点阵阵列膜的结构与磁性 | 第37-53页 |
| ·Fe反点阵阵列膜的制备条件 | 第38-40页 |
| ·Fe反点阵阵列膜的晶体结构 | 第40-42页 |
| ·Fe的反点阵阵列膜的宏观磁性 | 第42-43页 |
| ·Fe的反点阵阵列膜的微观磁性 | 第43-48页 |
| ·Fe反点阵阵列膜的低温磁性 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 Co、Co_(65)Fe_(35)、Fe_(19)Ni_(81)反点阵阵列膜的结构与磁性 | 第53-66页 |
| ·Co、Co_(65)Fe_(35)、Fe_(19)Ni_(81)反点阵阵列膜的制备 | 第53-54页 |
| ·反点阵阵列膜的形貌 | 第54-56页 |
| ·反点阵阵列膜的结构 | 第56-57页 |
| ·反点阵阵列膜的宏观磁性 | 第57-61页 |
| ·Co反点阵阵列膜的宏观磁性 | 第57-58页 |
| ·Co_(65)Fe_(35)反点阵阵列膜的宏观磁性 | 第58-59页 |
| ·Fe_(19)Ni_(81)反点阵阵列膜的宏观磁性 | 第59-61页 |
| ·Co反点阵阵列膜的低温磁性 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第五章 多层反点阵阵列膜的结构和磁性 | 第66-81页 |
| ·Si/Co/Fe_(50)Mn_(50)中的磁性 | 第66-72页 |
| ·Si/Co/Fe_(50)Mn_(50)和Co的制备条件 | 第67页 |
| ·Si/Co/Fe_(50)Mn_(50)和Si/Co的未处理时磁性 | 第67-68页 |
| ·磁场热处理后的Si/Co/Fe_(50)Mn_(50)的磁性 | 第68-71页 |
| ·磁场热处理后的Si/Co/Fe_(50)Mn_(50)的高频磁性 | 第71-72页 |
| ·FeMn/Co/FeMn反点阵阵列膜中的交换偏置 | 第72-78页 |
| ·FeMn/Co/FeMn反点阵阵列膜的制备条件 | 第73-74页 |
| ·FeMn/Co/FeMn反点阵阵列膜的形貌 | 第74页 |
| ·FeMn/Co/FeMn反点阵阵列膜的晶体结构 | 第74-75页 |
| ·FeMn/Co/FeMn反点阵阵列膜的磁性 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第六章 结论和展望 | 第81-83页 |
| ·结论 | 第81-82页 |
| ·展望 | 第82-83页 |
| 附录: | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
