等离子表面淬火控制系统的开发研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| ·本课题研究的意义 | 第11页 |
| ·中国的热处理发展概况 | 第11-13页 |
| ·国内外常见的热处理生产技术 | 第13-17页 |
| ·渗碳热处理技术 | 第13页 |
| ·真空热处理技术 | 第13-14页 |
| ·感应加热热处理技术 | 第14页 |
| ·化学热处理技术 | 第14-15页 |
| ·离子热处理技术 | 第15页 |
| ·激光和电子束热处理技术 | 第15-16页 |
| ·等离子弧表面淬火热处理技术 | 第16-17页 |
| ·离子弧表面淬火技术与其它表面淬火技术的比较 | 第17-20页 |
| ·高能量密度与低能量密度热源的比较 | 第17-18页 |
| ·等离子弧热处理与激光热处理技术的比较 | 第18-20页 |
| ·表面热处理技术的发展方向 | 第20页 |
| ·国内外等离子及电源的发展概况 | 第20-22页 |
| ·课题的研究内容 | 第22-24页 |
| 2 等离子弧表面淬火技术的理论基础 | 第24-37页 |
| ·等离子弧的结构 | 第24-25页 |
| ·非转移型等离子弧 | 第24页 |
| ·转移型等离子弧 | 第24-25页 |
| ·联合型等离子弧 | 第25页 |
| ·等离子弧的弧柱物理 | 第25-28页 |
| ·电弧的伏安特性 | 第25-27页 |
| ·电弧的功率密度分布 | 第27-28页 |
| ·电弧的径向温度分布 | 第28页 |
| ·淬火过程的实用简化算法 | 第28-33页 |
| ·淬火热源 | 第29页 |
| ·金属的导热 | 第29-30页 |
| ·算法分析与模型建立 | 第30-33页 |
| ·温度场分析 | 第33-34页 |
| ·淬火工艺参数对硬化层深度的影响 | 第34-35页 |
| ·等离子弧淬火相变硬化机理 | 第35-37页 |
| 3 等离子弧表面淬火电源 | 第37-48页 |
| ·等离子弧表面淬火设备组成 | 第37页 |
| ·等离子弧表面淬火主电源设计的理论依据 | 第37-45页 |
| ·逆变器电路 | 第38-40页 |
| ·闭环控制电路 | 第40-41页 |
| ·PWM脉冲宽度调制技术 | 第41-45页 |
| ·等离子弧表面淬火主电源的设计 | 第45-48页 |
| ·主电源的输入 | 第45页 |
| ·脉宽调制信号 | 第45-47页 |
| ·淬火功率输出及采集信号 | 第47-48页 |
| 4 控制设计 | 第48-59页 |
| ·单片机控制系统的抗干扰理论分析 | 第48-52页 |
| ·干扰来源 | 第48页 |
| ·硬件抗干扰技术 | 第48-52页 |
| ·控制电路的设计 | 第52-59页 |
| ·输入直流电源的抗干扰 | 第52页 |
| ·核心控制89C55 | 第52-53页 |
| ·I/O扩展8155 | 第53-54页 |
| ·显示控制 YM12864 | 第54-55页 |
| ·取样电路 AD及输入控制 | 第55-56页 |
| ·输出控制 | 第56-59页 |
| 5 试验 | 第59-63页 |
| ·试验目的 | 第59页 |
| ·淬火工艺参数的确定 | 第59页 |
| ·淬火过程 | 第59-60页 |
| ·结果分析 | 第60-63页 |
| 6 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 附录A 设计电路图 | 第67-68页 |
| 在学研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附图 | 第70-72页 |
