| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·TDEL技术发展现状 | 第10-15页 |
| ·无机电致发光技术发展概述 | 第10-11页 |
| ·TDEL的基本结构 | 第11-13页 |
| ·TDEL技术研发现状 | 第13-14页 |
| ·TDEL与其它显示器件的比较 | 第14页 |
| ·TDEL的前景 | 第14-15页 |
| ·本文的研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 无机电致发光机理及发光特性 | 第16-27页 |
| ·强场区的形成 | 第17页 |
| ·初始电子的来源 | 第17页 |
| ·界面发射 | 第17-18页 |
| ·电子能量的运输 | 第18-19页 |
| ·碰撞离化和碰撞激发 | 第19-20页 |
| ·两种发光中心 | 第20-21页 |
| ·发光中心的场致离化 | 第21页 |
| ·电致发光的光电特性 | 第21-23页 |
| ·电致发光亮度和电压的关系 | 第22页 |
| ·电致发光屏的亮度和频率的关系 | 第22-23页 |
| ·电致发光的亮度波形 | 第23-25页 |
| ·脉冲驱动特性 | 第23-24页 |
| ·滞后特性 | 第24-25页 |
| ·电致发光屏的老化问题 | 第25-27页 |
| 第三章 绝缘层 | 第27-34页 |
| ·绝缘层的作用及要求 | 第27-28页 |
| ·绝缘层的等效电路 | 第28-29页 |
| ·绝缘介质特性与器件阈值电压的关系 | 第29-30页 |
| ·绝缘介质特性与器件效率的关系 | 第30-31页 |
| ·常用绝缘材料的特性参数 | 第31-34页 |
| 第四章 以陶瓷厚膜为绝缘层的电致发光器件的制备与测量 | 第34-44页 |
| ·器件的制备 | 第34-36页 |
| ·器件的结构 | 第34页 |
| ·基片的选取与清洗 | 第34页 |
| ·内电极的制备 | 第34-35页 |
| ·陶瓷厚膜的制备 | 第35页 |
| ·发光层的制备 | 第35-36页 |
| ·透明电极的制备 | 第36页 |
| ·器件的封装 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·陶瓷厚膜的制备 | 第36-38页 |
| ·电致发光光谱 | 第38页 |
| ·亮度与驱动电压之间的关系 | 第38-39页 |
| ·亮度与驱动频率之间的关系 | 第39-40页 |
| ·发光效率 | 第40-41页 |
| ·陶瓷厚膜电致发光器件与传统电致发光器件的比较 | 第41-42页 |
| ·结论 | 第42-44页 |
| 第五章 总结和展望 | 第44-46页 |
| ·工作总结 | 第44页 |
| ·工作展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第48页 |
| 攻读硕士期间参与的科研项目 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |