| 第一章 绪论 | 第1-31页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·镁及镁合金的应用及其表面改性技术 | 第13-20页 |
| ·镁及镁合金的特性 | 第13-14页 |
| ·镁及镁合金的应用现状和发展前景 | 第14-16页 |
| ·镁合金的表面改性技术 | 第16-20页 |
| ·微弧氧化处理技术研究概况及发展 | 第20-28页 |
| ·微弧氧化处理技术发展历史 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化处理技术基本原理 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化处理技术的主要影响因素 | 第23-26页 |
| ·微弧氧化处理技术的特点 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化处理技术发展前景 | 第27-28页 |
| ·课题的提出和主要研究内容 | 第28-31页 |
| ·课题的提出 | 第28-29页 |
| ·本课题研究的内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验设备、材料及方法 | 第31-37页 |
| ·微弧氧化处理设备 | 第31页 |
| ·实验材料 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-34页 |
| ·实验的基本布骤 | 第32页 |
| ·实验方案 | 第32-34页 |
| ·陶瓷膜层性能的检测方法 | 第34-37页 |
| ·外观质量的检测 | 第34页 |
| ·耐蚀性检测 | 第34-35页 |
| ·结合强度检测 | 第35-36页 |
| ·耐磨性检测 | 第36-37页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第37-54页 |
| ·溶液体系的配方研究与分析 | 第37-43页 |
| ·溶液体系的配方研究 | 第37-42页 |
| ·溶液体系的配方分析优化 | 第42-43页 |
| ·其他工艺参数的研究与分析 | 第43-48页 |
| ·起始电压的分析优化 | 第43-45页 |
| ·电流密度的分析优化 | 第45-46页 |
| ·氧化时间的分析优化 | 第46-47页 |
| ·实验的最优工艺参数 | 第47-48页 |
| ·陶瓷膜的膜层结构 | 第48-52页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌 | 第48-49页 |
| ·陶瓷膜的截面形貌 | 第49-51页 |
| ·陶瓷膜的相结构 | 第51-52页 |
| ·陶瓷膜的生长过程及规律 | 第52-54页 |
| 第四章 微弧氧化陶瓷膜层结合强度及其耐蚀耐磨性能研究 | 第54-64页 |
| ·陶瓷膜层的结合强度 | 第54-57页 |
| ·陶瓷膜与基体的结合方式 | 第54页 |
| ·膜层结合强度测试 | 第54-57页 |
| ·陶瓷膜层的耐蚀性 | 第57-60页 |
| ·极化曲线 | 第57-58页 |
| ·腐蚀速度的研究与分析 | 第58-59页 |
| ·电化学腐蚀后试样的宏观形貌 | 第59-60页 |
| ·陶瓷膜层的耐磨性 | 第60-64页 |
| ·摩擦系数 | 第62-63页 |
| ·磨损形貌 | 第63-64页 |
| 第五章 Al_2O_3粉末对微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第64-77页 |
| 引言 | 第64页 |
| ·加入Al_2O_3粉末后工艺参数的优化 | 第64-69页 |
| ·氧化时间的优化结果 | 第64-66页 |
| ·电流密度的优化结果 | 第66-69页 |
| ·最优工艺参数的确定 | 第69页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜膜层组织和相结构的影响 | 第69-72页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜表面形貌的影响 | 第69-70页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜截面结构的影响 | 第70-71页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜相结构的影响 | 第71-72页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜膜层性能的影响 | 第72-77页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜膜层结合力的影响 | 第72-74页 |
| ·Al_2O_3粉末对陶瓷膜耐蚀性的影响 | 第74-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-79页 |
| 第七章 问题与展望 | 第79-80页 |
| ·本实验存在的问题 | 第79页 |
| ·今后的工作展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第86页 |