| 第一章 引论 | 第1-24页 |
| 1．1 光整加工技术概述 | 第9-15页 |
| 1．1．1 光整加工技术的概念 | 第9-10页 |
| 1．1．2 光整加工技术的特点 | 第10-11页 |
| 1．1．3 光整加工技术的分类 | 第11-14页 |
| 1．1．4 光整加工技术发展趋势 | 第14-15页 |
| 1．2 孔表面光整加工方法简介 | 第15-21页 |
| 1．2．1 珩磨 | 第15-16页 |
| 1．2．2 挤压珩磨 | 第16-17页 |
| 1．2．3 磁粒研磨光整加工 | 第17-19页 |
| 1．2．3．1 磁性磨料喷射精密抛光圆管内表面的加工研究 | 第17-18页 |
| 1．2．3．2 具有回转球的磁性磨料流抛光工艺 | 第18-19页 |
| 1．2．4 内孔滚压光整加工 | 第19-20页 |
| 1．2．5 旋涡气流光整加工 | 第20-21页 |
| 1．3 项目来源及本文所作工作 | 第21-24页 |
| 第二章 二相流理论 | 第24-30页 |
| 2．1 二相流基本概念 | 第24-26页 |
| 2．1．1 二相流中“相”的含义 | 第24-25页 |
| 2．1．2 二相流物理模型 | 第25-26页 |
| 2．2 二相流的非平衡流动特点、弛豫过程 | 第26-28页 |
| 2．3 二相流的基本方程 | 第28-30页 |
| 第三章 螺旋流 | 第30-51页 |
| 3．1 螺旋流的基本方程组 | 第30-31页 |
| 3．2 螺旋流基本特征 | 第31-36页 |
| 3．3 螺旋流应用 | 第36-38页 |
| 3．4 几种不同方式螺旋流形成 | 第38-42页 |
| 3．5 螺旋流发生装置 | 第42-51页 |
| 3．5．1 安装导流片式 | 第42-45页 |
| 3．5．2 切向进流方式的起旋器 | 第45-48页 |
| 3．5．2 其它的起旋器 | 第48-51页 |
| 第四章 液粒两相螺旋流光整加工 | 第51-73页 |
| 4．1 高能液粒两相螺旋流光整加工工艺方法及整体研究目标 | 第51-52页 |
| 4．1．1 液粒两相螺旋流光整加工工艺方法简介 | 第51页 |
| 4．1．2 液粒两相螺旋流光整加工工艺整体研究目标 | 第51-52页 |
| 4．2 液粒两相螺旋流光整加工机理 | 第52-56页 |
| 4．2．1 高速螺旋液流去毛刺原理 | 第52-53页 |
| 4．2．2 微量切削作用 | 第53-54页 |
| 4．2．3 滚压作用 | 第54-55页 |
| 4．2．4 碰撞及刻划作用 | 第55-56页 |
| 4．3 球形磨粒在螺旋液流场中的受力分析 | 第56-60页 |
| 4．4 球形磨粒在螺旋液流场中的运动特点 | 第60-65页 |
| 4．4．1 磨粒的运动分析 | 第61-63页 |
| 4．4．2 磨粒在螺旋液流场中的运动特点 | 第63-65页 |
| 4．4．3 球形磨粒沿管壁的运动轨迹方程 | 第65页 |
| 4．5 磨粒所受的正压力公式及其影响参数的理论分析 | 第65-70页 |
| 4．6 螺旋液流的能量损失 | 第70-73页 |
| 4．6．1 螺旋流体总能 | 第70-71页 |
| 4．6．2 管壁对螺旋线流的摩擦阻力的理论分析 | 第71-73页 |
| 第五章 液粒两相螺旋流光整加工实验装置探讨 | 第73-79页 |
| 5．1 高压水流的发生 | 第73-76页 |
| 5．2 螺旋流生成装置 | 第76-77页 |
| 5．3 磨粒的选择 | 第77-79页 |
| 5．3．1 磨粒形状的选择 | 第77-78页 |
| 5．3．2 磨粒粒度的影响 | 第78页 |
| 5．3．3 磨粒尺寸的影响 | 第78-79页 |
| 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第84页 |
| 攻读硕士学位期间从事研究项目 | 第84页 |
