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化学辅助离子束刻蚀实验设备设计及其机理的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第6-12页
   ·光子晶体简介第6-9页
   ·光子晶体的实验制备第9-11页
   ·课题介绍第11-12页
第二章 实验设备的设计第12-27页
   ·设备筹建思路第12页
   ·设备结构第12-13页
   ·设计原理第13-16页
   ·技术实现第16-21页
   ·设备参数第21-27页
第三章 刻蚀机理的研究第27-40页
   ·刻蚀方法概述第27页
   ·化学辅助离子束刻蚀第27-40页
第四章 刻蚀的简单模拟第40-48页
   ·干法刻蚀模拟工具简介第40页
   ·表面刻蚀模型第40-43页
   ·计算机模拟第43-48页
结论第48-49页
展望第49-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-54页

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