摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-20页 |
·集成铁电器件中的电极材料 | 第9-17页 |
·集成铁电器件 | 第9-11页 |
·铁电红外焦平面器件 | 第11-12页 |
·钙钛矿结构导电薄膜在集成铁电器件中的应用 | 第12-17页 |
·钙钛矿结构导电薄膜材料脉冲激光沉积法的制备 | 第17-20页 |
·薄膜的制备技术 | 第17-18页 |
·脉冲激光沉积法 | 第18-20页 |
第二章 脉冲激光沉积法制备薄膜 | 第20-33页 |
·脉冲激光沉积薄膜发展 | 第20-23页 |
·脉冲激光沉积薄膜理论 | 第23-27页 |
·脉冲激光沉积薄膜设备 | 第27-31页 |
·准分子激光器 | 第28-30页 |
·沉积系统 | 第30-31页 |
·控制系统 | 第31页 |
·脉冲激光沉积薄膜的优缺点 | 第31-33页 |
第三章 La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的制备 | 第33-45页 |
·实验过程 | 第33-39页 |
·衬底的清洗 | 第33-34页 |
·靶材及衬底的安装 | 第34页 |
·光路调节 | 第34-35页 |
·系统抽真空及衬底加热 | 第35-36页 |
·薄膜沉积 | 第36-38页 |
·退火处理 | 第38-39页 |
·靶材及衬底的选择 | 第39-42页 |
·工艺参数的选择 | 第42页 |
·薄膜制备中的几个问题 | 第42-45页 |
第四章 La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的结晶及表面形貌测试分析 | 第45-64页 |
·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的结晶程度测试及分析 | 第45-52页 |
·不同衬底对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜结晶的影响 | 第46-49页 |
·不同制备工艺对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜结晶的影响 | 第49-52页 |
·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的表面形貌分析 | 第52-64页 |
·不同衬底对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3表面形貌的影响 | 第53-56页 |
·不同制备工艺对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3表面形貌的影响 | 第56-64页 |
第五章 La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜电性能测试与分析 | 第64-87页 |
·四探针法测量薄膜电阻 | 第64-71页 |
·四探针法的基本原理 | 第64-66页 |
·四探针法的实验装置 | 第66-67页 |
·四探针法的测量与计算 | 第67-69页 |
·四探针法的误差分析 | 第69-71页 |
·不同衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能的测试及分析 | 第71-76页 |
·Si衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能测试 | 第71-72页 |
·SiO_2/Si衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能测试 | 第72-73页 |
·Pt/Ti/SiO_2/Si衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能测试 | 第73-74页 |
·LaAlO_3衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能测试 | 第74-75页 |
·不同衬底及不同生长条件对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜电阻的影响分析 | 第75-76页 |
·其它工艺条件对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能的影响 | 第76-78页 |
·退火工艺对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能的影响 | 第76-77页 |
·其他因素对La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜导电性能的影响 | 第77-78页 |
·倾斜LaAlO_3衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3及La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜的电阻各向异性 | 第78-87页 |
·不同倾斜角度LaAlO_3衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的电阻各向异性 | 第78-80页 |
·不同倾斜角度LaAlO_3衬底上La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜的电阻各向异性 | 第80-81页 |
·倾斜衬底上薄膜的自组织结构 | 第81-87页 |
第六章 La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的其他效应 | 第87-90页 |
·倾斜LaAlO_3衬底上La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的激光感生电压效应 | 第87-89页 |
·La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的气敏性质 | 第89-90页 |
第七章 结论 | 第90-92页 |
致谢 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-99页 |