| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 图表索引 | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1．1 引言 | 第10页 |
| 1．2 等栅距衍射光栅的加工历史 | 第10-11页 |
| 1．3 变栅距光栅发展的历史回顾 | 第11-13页 |
| 1．4 平面变栅距光栅的特点 | 第13-14页 |
| 1．5 变栅距光栅的分类 | 第14-15页 |
| 1．6 变栅距光栅的应用及展望 | 第15-18页 |
| 1．7 变栅距光栅加工原理 | 第18-21页 |
| 1．8 变栅距光栅加工方法的比较 | 第21-23页 |
| 1．9 变栅距光栅加工技术的关键 | 第23-24页 |
| 1．10 本文的主要研究内容及意义 | 第24-26页 |
| 第2章 平面变栅距光栅原理综述 | 第26-33页 |
| 2．1 引言 | 第26页 |
| 2．2 平面变栅距光栅的栅距公式 | 第26-27页 |
| 2．3 平面变栅距光栅的自聚焦原理 | 第27-29页 |
| 2．4 平面变栅距光栅的像差校正原理 | 第29-32页 |
| 2．5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 等栅距光电式光栅刻划机的控制系统设计 | 第33-42页 |
| 3．1 引言 | 第33页 |
| 3．2 光栅刻划机的基本类型 | 第33-35页 |
| 3．3 国外典型光栅刻划机的控制结构 | 第35-36页 |
| 3．4 纯机械式光栅刻划机光电式改造的总体方案设计 | 第36-38页 |
| 3．5 光栅干涉仪分度控制原理 | 第38-39页 |
| 3．6 光电式光栅刻划机控制系统设计 | 第39-41页 |
| 3．7 本章小节 | 第41-42页 |
| 第4章 平面变栅距衍射光栅的加工原理 | 第42-49页 |
| 4．1 引言 | 第42页 |
| 4．2 日本的平面变栅距光栅刻划机 | 第42-44页 |
| 4．3 相位扫描法加工平面变栅距光栅的原理 | 第44-47页 |
| 4．4 相位扫描法加工平面变栅距光栅的特点 | 第47-48页 |
| 4．5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 平面变栅距衍射光栅的刻划实验 | 第49-61页 |
| 5．1 引言 | 第49页 |
| 5．2 相位扫描器装置 | 第49-50页 |
| 5．3 控制系统硬件设计 | 第50-51页 |
| 5．4 控制系统软件设计 | 第51-56页 |
| 5．5 平面变栅距光栅的刻划实验 | 第56-58页 |
| 5．6 相位扫描法加工平面变栅距光栅实验的主要误差来源 | 第58-59页 |
| 5．7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第6章 平面变栅距光栅栅距的实验检测 | 第61-75页 |
| 6．1 引言 | 第61页 |
| 6．2 可用于变栅距光栅栅距检测的实验方法 | 第61-63页 |
| 6．3 通过测量衍射角的变化检测平面变栅距光栅栅距的原理 | 第63-64页 |
| 6．4 衍射角测量法检测平面变栅距光栅栅距的实验结果 | 第64-71页 |
| 6．5 实验误差的主要来源 | 第71-72页 |
| 6．6 用原子力显微镜检测平面变栅距光栅栅距的实验结果 | 第72-74页 |
| 6．7 本章小结 | 第74-75页 |
| 第7章 全文总结及未来工作的展望 | 第75-77页 |
| 7．1 主要研究成果 | 第75页 |
| 7．2 主要创新之处 | 第75-76页 |
| 7．3 未来工作展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 发表论文情况 | 第84页 |
| 作者简历 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
