| 1． 绪论 | 第1-16页 |
| 1．1 引言 | 第6-8页 |
| 1．2 国内外研究进展及常见的制备ZrN膜方法 | 第8-13页 |
| 1．3 ZrN膜的应用 | 第13-15页 |
| 1．3．1 机械领域中的应机械领域中的应用 | 第13-14页 |
| 1．3．2 核领域中的应用 | 第14-15页 |
| 1．3．3 其他领域中的应用 | 第15页 |
| 1．4 本课题的目的、意义及拟采用的实验方法 | 第15-16页 |
| 2． 薄膜制备的微波-ECR等离子体增强溅射沉积工艺 | 第16-22页 |
| 2．1 微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅沉积概述 | 第16-17页 |
| 2．2 实验设备 | 第17-19页 |
| 2．3 薄膜制备的实验过程 | 第19-20页 |
| 2．4 实验工艺参数 | 第20-22页 |
| 3． 薄膜的特性表征 | 第22-56页 |
| 3．1 薄膜的厚度及沉积速率及表面形貌 | 第22-31页 |
| 3．2 薄膜的成分和颜色 | 第31-34页 |
| 3．3 薄膜的结构分析 | 第34-38页 |
| 3．4 薄膜的耐蚀性能分析 | 第38-51页 |
| 3．5 薄膜的摩擦学特性 | 第51-56页 |
| 4． 结论与展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |