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纳米四氧化三钴和苯并咪唑离子液体在化学修饰电极中的应用

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第一部分 文献综述第8-24页
 第一章 绪论第8-24页
第二部分 研究报告第24-65页
 第一章 黄嘌呤在纳米四氧化三钴修饰碳糊电极上的伏安行为第24-34页
  1.引言第24页
  2.实验部分第24-26页
  3.结果与讨论第26-31页
  4.结论第31-32页
  参考文献第32-34页
 第二章 苯并咪唑离子液体嵌入石墨电极上黄嘌呤的伏安行为第34-44页
  1.引言第34页
  2.实验部分第34-36页
  3.结果与讨论第36-41页
  4.XA的伏安测定第41-42页
  5.结论第42页
  参考文献第42-44页
 第三章 苯并咪唑离子液体嵌入石墨电极上多贝斯的测定第44-54页
  1.引言第44页
  2.实验部分第44-45页
  3.结果与讨论第45-50页
  4.CD的伏安法测定第50-51页
  5.结论第51-52页
  参考文献第52-54页
 第四章 一种表征金表面上半胱氨酸自组装的零流电位法第54-65页
  1.引言第54页
  2.实验部分第54-56页
  3.结果与讨论第56-61页
  4.结论第61-62页
  参考文献第62-65页
攻读硕士期间研究成果第65-66页
致谢第66页

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