电化学制备纳米铜粉的研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·纳米铜粉的含义、制备、性质与应用 | 第12-18页 |
| ·纳米铜粉的制备 | 第12-18页 |
| ·纳米颗粒的表面化学修饰 | 第18-19页 |
| ·选题依据与研究思路 | 第19-23页 |
| ·研究目标、研究内容和拟解决的关键问题 | 第19-20页 |
| ·拟采取的研究方法、实验方案及可行性分析 | 第20-21页 |
| ·本项目的创新之处 | 第21页 |
| ·本项目的工艺路线 | 第21-23页 |
| 第二章 电化学制备纳米铜粉的工艺研究 | 第23-31页 |
| ·电化学制备纳米铜粉的理论基础 | 第23-24页 |
| ·乳化液制备纳米铜粉的原理 | 第24-25页 |
| ·铜离子的还原过程 | 第25-26页 |
| ·纳米颗粒表面修饰剂的选择 | 第26-27页 |
| ·试验装置 | 第27-28页 |
| ·试验工艺流程 | 第28-30页 |
| ·主要设备 | 第30-31页 |
| 第三章 表面分散剂对电化学制备纳米铜粉的影响 | 第31-37页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·主要试剂及设备 | 第31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·样品表征 | 第32页 |
| ·实验结果 | 第32-36页 |
| ·纳米铜粉的化学结构 | 第32页 |
| ·单一修饰剂的影响 | 第32-33页 |
| ·复配表面分散剂的影响 | 第33-35页 |
| ·表面分散剂对纳米铜粉的作用机理 | 第35-36页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| 第四章 PH值对电化学制备纳米铜粉的影响 | 第37-44页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验过程 | 第37-38页 |
| ·化学试剂 | 第37页 |
| ·纳米铜粉的制备 | 第37-38页 |
| ·样品表征 | 第38页 |
| ·实验结果 | 第38-43页 |
| ·纳米铜粉的化学结构 | 第38-39页 |
| ·纳米铜粉TEM分析 | 第39-41页 |
| ·红外光谱分析 | 第41-42页 |
| ·pH值对纳米铜粉的影响 | 第42-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 第五章 硫酸铜浓度对电化学制备纳米铜粉的影响 | 第44-51页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验过程 | 第44-45页 |
| ·化学试剂 | 第44页 |
| ·纳米铜粉的制备 | 第44-45页 |
| ·样品表征 | 第45页 |
| ·实验结果 | 第45-49页 |
| ·纳米铜粉的化学结构 | 第45-46页 |
| ·TEM分析 | 第46-47页 |
| ·FT-IR分析 | 第47-49页 |
| ·CUSO_4浓度对制备纳米颗粒的影响 | 第49页 |
| ·CUSO_4浓度对表面分散剂的影响 | 第49页 |
| ·结论 | 第49-51页 |
| 第六章 电流密度对电化学制备纳米铜粉的影响 | 第51-58页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验过程 | 第51-52页 |
| ·化学试剂 | 第51页 |
| ·纳米铜粉的制备 | 第51-52页 |
| ·样品表征 | 第52页 |
| ·实验结果 | 第52-55页 |
| ·XRD分析 | 第52-53页 |
| ·TEM分析 | 第53-54页 |
| ·FT-IR分析 | 第54-55页 |
| ·讨论 | 第55-57页 |
| ·电流密度对纳米铜粉末的影响分析 | 第56页 |
| ·乳化液在制备纳米铜粉中的作用 | 第56-57页 |
| ·电流密度对乳化液制备纳米铜的作用 | 第57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 1.本论文的主要研究内容及主要结论 | 第58-59页 |
| 2.后续工作的建议 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第68页 |
