光子晶体构筑基元的制备和表面修饰
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第5-25页 |
| ·引言 | 第5-6页 |
| ·光子晶体的制备 | 第6-13页 |
| ·精密加工法 | 第6-8页 |
| ·自组装法 | 第8-13页 |
| ·光子晶体用基元的制备 | 第13-16页 |
| ·影响二氧化硅粒径和粒径分布的条件 | 第13-14页 |
| ·表面改性方法 | 第14-16页 |
| ·光子晶体的研究热点及应用前景 | 第16-17页 |
| ·本课题的目的和意义 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-25页 |
| 第二章 仪器及测试方法 | 第25-29页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验药品及仪器 | 第25-26页 |
| ·测试方法 | 第26-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
| ·傅立叶红外光谱仪(FT-IR) | 第26页 |
| ·能谱仪(EDS) | 第26-29页 |
| 第三章 光子晶体用二氧化硅微球的制备 | 第29-53页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·单分散二氧化硅微球的制备 | 第30-34页 |
| ·二氧化硅微球的形成过程 | 第34-36页 |
| ·温度和搅拌速度对二氧化硅微球的影响 | 第36-41页 |
| ·电解质对二氧化硅微球的影响 | 第41-46页 |
| ·晶核由自身产生的情况 | 第42-43页 |
| ·外界加入晶核时的情况 | 第43-44页 |
| ·分析与讨论 | 第44-46页 |
| ·微球的后处理 | 第46-50页 |
| ·冷冻干燥 | 第47-48页 |
| ·静置分层 | 第48-49页 |
| ·氢氧化钠腐蚀 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 单分散二氧化硅微球的表面修饰 | 第53-67页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·二氧化硅的结构 | 第53页 |
| ·二氧化硅的红外图 | 第53-54页 |
| ·亚甲基蓝对二氧化硅的修饰 | 第54-56页 |
| ·硅烷偶联剂对二氧化硅的影响 | 第56-59页 |
| ·硅烷偶联剂水解后直接改性 | 第56-57页 |
| ·硅烷偶联剂与TEOS同时添加 | 第57-59页 |
| ·TiO_2@SiO_2的核壳结构的制备 | 第59-64页 |
| ·TBOT水解包覆 | 第60-62页 |
| ·静电吸引 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
