| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 样品制备及表征方法 | 第14-21页 |
| ·硅油液体基片的处理方法 | 第14-16页 |
| ·双频电容耦合等离子体系统（DF-CCP） | 第14-15页 |
| ·实验参数 | 第15-16页 |
| ·硅油液体基片处理前后微结构的扫描电镜分析 | 第16页 |
| ·硅油液体基片结构的傅立叶变换红外光谱表征方法 | 第16-18页 |
| ·放电等离子体的发射光谱（OES）分析 | 第18-21页 |
| 第三章 硅油液体基片在Ar 等离子体中的结构不稳定性分析 | 第21-31页 |
| ·等离子体作用的硅油液体基片表面形貌分析 | 第21-22页 |
| ·等离子体作用的硅油液体基片键结构分析 | 第22-31页 |
| ·60MHz/2MHz DF-CCP 等离子体作用的硅油键结构分析 | 第23-27页 |
| ·13.56MHz/2MHz DF-CCP 等离子体作用的硅油键结构分析 | 第27-31页 |
| 第四章 Ar 等离子体处理硅油液体基片时的空间等离子体分析 | 第31-36页 |
| ·60MHz/2MHz DF-CCP Ar 等离子体作用硅油液体的发射光谱分析 | 第31-33页 |
| ·13.56MHz/2MHz DF-CCP Ar 等离子体作用硅油液体的发射光谱分析 | 第33-36页 |
| 第五章 结论 | 第36-38页 |
| ·本文的主要结果 | 第36页 |
| ·存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 攻读学位期间公开发表论文、论著 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
