| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·二氧化锆 | 第9-13页 |
| ·二氧化锆基本性质 | 第9-10页 |
| ·二氧化锆的稳定化原理 | 第10-11页 |
| ·二氧化锆的稳定化工艺 | 第11-13页 |
| ·二氧化锆应用于热障涂层 | 第13-14页 |
| ·Zr0_2 热障涂层材料的性能 | 第13页 |
| ·Zr0_2 热障涂层失效机理 | 第13-14页 |
| ·晶界偏聚理论 | 第14-18页 |
| ·平衡偏聚理论 | 第14-18页 |
| ·非平衡偏聚理论 | 第18页 |
| ·俄歇电子能谱简介 | 第18-20页 |
| ·相对灵敏度因子测定 | 第19-20页 |
| ·定量分析 | 第20页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验内容 | 第22-29页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·样品烧结工艺 | 第22-25页 |
| ·实验原料 | 第22页 |
| ·主要实验仪器及设备 | 第22-23页 |
| ·掺杂Ce0_2 的3Y-Zr0_2 烧结工艺 | 第23页 |
| ·Ce0_2 烧结工艺 | 第23-24页 |
| ·Y203 烧结工艺 | 第24页 |
| ·表征技术 | 第24-25页 |
| ·俄歇能谱分析 | 第25-29页 |
| ·时效热处理 | 第25-26页 |
| ·俄歇样品加工 | 第26-28页 |
| ·俄歇能谱分析 | 第28-29页 |
| 第3章 样品烧结工艺比较 | 第29-38页 |
| ·掺杂Ce0_2 的3Y-Zr0_2 烧结工艺比较 | 第29-32页 |
| ·密度测试 | 第29页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第29-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第31-32页 |
| ·Ce0_2 烧结工艺比较 | 第32-35页 |
| ·密度测试 | 第32-35页 |
| ·Y_20_3 烧结工艺比较 | 第35-36页 |
| ·密度测试 | 第35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第35-36页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 俄歇电子能谱分析 | 第38-50页 |
| ·俄歇能谱分析 | 第38-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 个人简历 | 第57页 |