| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| ·长余辉发光材料的发光机理 | 第9-12页 |
| ·空穴转移模型 | 第9-10页 |
| ·“隧穿”模型 | 第10-11页 |
| ·位型坐标模型 | 第11-12页 |
| ·长余辉发光材料的主要应用性能 | 第12-13页 |
| ·热稳定性 | 第12-13页 |
| ·耐水性 | 第13页 |
| ·化学稳定性 | 第13页 |
| ·长余辉发光材料分类及其在釉料中应用 | 第13-19页 |
| ·硫化物系列长余辉发光材料及其在釉料中的应用 | 第13-14页 |
| ·铝酸盐体系长余辉发光材料及其在釉料中的应用 | 第14-17页 |
| ·硅酸盐体系长余辉发光材料及其在釉料中的应用 | 第17-19页 |
| ·长余辉发光釉 | 第19-20页 |
| ·长余辉发光釉的添加剂 | 第19页 |
| ·长余辉发光釉的基础釉 | 第19-20页 |
| ·长余辉发光釉的制备方法 | 第20页 |
| ·本课题研究目的、意义和内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验仪器与测试方法 | 第22-27页 |
| ·实验仪器 | 第22页 |
| ·实验过程及操作 | 第22-25页 |
| ·长余辉发光粉的制备 | 第23-24页 |
| ·长余辉发光釉的制备 | 第24-25页 |
| ·表征方法 | 第25-27页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25页 |
| ·激发光谱 | 第25页 |
| ·发射光谱 | 第25-26页 |
| ·发光亮度 | 第26页 |
| ·余辉衰减和余辉衰减曲线 | 第26-27页 |
| 第3章 原料对硅酸盐材料余辉性能的影响 | 第27-38页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·实验原料 | 第27页 |
| ·高温固相法合成长余辉发光粉 | 第27-30页 |
| ·实验步骤 | 第27-28页 |
| ·结果分析 | 第28-30页 |
| ·原料预处理对硅酸盐长余辉材料性能的影响 | 第30-32页 |
| ·锶原料对硅酸盐长余辉材料性能的影响 | 第32-35页 |
| ·碳酸锶与硝酸锶的区别 | 第32页 |
| ·碳酸锶、硝酸锶为原料合成发光粉 | 第32-33页 |
| ·结果分析 | 第33-35页 |
| ·不同硅原料对发光粉余辉性能的影响 | 第35-37页 |
| ·纳米SiO_2为原料合成长余辉发光粉 | 第35-36页 |
| ·溶融氧化硅为原料对材料余辉性能的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 激活剂掺杂对材料长余辉性能的影响 | 第38-52页 |
| ·稀土离子简介 | 第38-41页 |
| ·稀土元素的电子层结构图 | 第38-39页 |
| ·镧系稀土元素的价态 | 第39-40页 |
| ·稀土元素的能级 | 第40-41页 |
| ·实验原料 | 第41页 |
| ·单一辅助激活离子掺杂对材料性能的影响 | 第41-45页 |
| ·(Sr,Ca)MgSi_2O_7：Eu,RE的结构表征 | 第42-43页 |
| ·单一辅助激活离子掺杂材料的初始发光亮度对比 | 第43-44页 |
| ·单一辅助激活离子掺杂材料的余辉曲线对比 | 第44-45页 |
| ·激发和发射光谱 | 第45-46页 |
| ·辅助激活剂混合掺杂对材料性能的影响 | 第46-48页 |
| ·混合掺杂材料的初始发光亮度对比 | 第46-47页 |
| ·混合掺杂材料的余辉曲线对比 | 第47-48页 |
| ·激发和发射光谱 | 第48页 |
| ·镧、铈元素不同掺杂量对材料余辉性能的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第5章 长余辉材料在釉料中的应用 | 第52-67页 |
| ·实验原料 | 第52页 |
| ·实验流程 | 第52-53页 |
| ·长余辉发光粉的应用性能测试 | 第53-59页 |
| ·热稳定性 | 第53-56页 |
| ·耐水性 | 第56-57页 |
| ·化学稳定性 | 第57-59页 |
| ·基础釉的选择 | 第59页 |
| ·基础釉选择原则 | 第59页 |
| ·基础釉的选择 | 第59页 |
| ·长余辉发光釉的制备 | 第59-60页 |
| ·原料对发光釉性能的影响 | 第60-63页 |
| ·发光粉粒度对发光釉性能的影响 | 第60-61页 |
| ·发光粉含量对发光釉性能的影响 | 第61页 |
| ·釉料粒度对发光釉性能的影响 | 第61-62页 |
| ·釉层厚度对发光釉性能的影响 | 第62-63页 |
| ·CMC加入量对发光釉性能的影响 | 第63页 |
| ·烧制工艺对发光釉性能影响 | 第63-65页 |
| ·烧成周期对釉面质量的影响 | 第64页 |
| ·后期还原处理对发光釉性能的影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |