| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 多铁性材料 | 第9-16页 |
| 1.3 聚合物基复合多铁性薄膜材料的研究进展 | 第16-20页 |
| 1.4 论文内容安排 | 第20-22页 |
| 2 实验原料及仪器设备 | 第22-26页 |
| 2.1 实验原料 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器与设备 | 第22-23页 |
| 2.3 测试与表征 | 第23-26页 |
| 3 YIG-P(VDF-TrFE)复合薄膜的磁电耦合效应 | 第26-39页 |
| 3.1 引言 | 第26-27页 |
| 3.2 制备过程与测试方法 | 第27-29页 |
| 3.3 物相表征 | 第29-31页 |
| 3.4 复合薄膜的室温多铁性及逆磁电耦合效应 | 第31-35页 |
| 3.5 复合薄膜的微波磁介电效应 | 第35-37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 4 YIG-P(VDF-TrFE)复合薄膜光学带隙的电场调控研究 | 第39-49页 |
| 4.1 引言 | 第39-40页 |
| 4.2 制备过程与测试方法 | 第40-42页 |
| 4.3 物相表征 | 第42-44页 |
| 4.4 xYIG-(1-x)P(VDF-TrFE)复合薄膜光学带隙的电场调控 | 第44-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 5 全文总结 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
